功率谱密度(PSD)在评价超精密光学表面中的应用研究

用原子力显微镜对不同工艺下获得的超光滑反射镜基片进行了功率谱密度(PSD)检测,并对结果进行分析,以指导光学元件加工。     

光学基片表面软质抛光胶体粒子的激光清洗

介绍了光学基片表面软质抛光胶体粒子激光清洗的基本方法、原理和实验装置,并通过对含有污染微粒的基片表面进行激光清洗,获得了高洁净表面的光学基片.     

高精度YAG超平光学基片高效范成法超精磨削的研究

随着YAG新型显示材料制成的高清晰度电视即将投放市场，使得YAG光学基片的批量生产和成本问题面临严峻考验．为了保证产品质量和企业生产效益，提出了大直径高精度YAG光学基片范成法超精磨削的设想．通过实验验证表明，该方法不仅能高效高质量生产合格的YAG光学基片，大幅度降低制造成本，而且为该方法在其它光学材料加工上的应用也奠定了基础．     

2GHz～18GHz一分四频分器的设计

文章通过分析研究实现于悬置基片带状线(SSS)的广义切比雪夫型微波低通、高通滤波器的设计,将SSS微波低通、高通滤波器分别缩简,然后并接优化之,制成了集成一体的SSS结构微波频分器,并给出了2 GHz～18 GHz一分四频分器的实验结果。     

K波段基片集成波导带通滤波器的设计

基片集成波导(Substrate Integrated Waveguide,SIW)是一种低插损、低辐射、高品质因素的导波结构。文章利用基片集成波导技术设计了一种K波段带通滤波器,其中心频率为19.4GHz,相对带宽为7.48%,插损小于1dB,该滤波器具有体积小、重量轻、易于加工和集成等优点。     

Y2O3涂层的MOCVD法制备工艺

采用MOCVD法,通过金属有机先驱体Y(TMHD)3与O2反应在石英或CVD-SiC基片上制备Y2O3涂层,探索了制备工艺对沉积结果的影响.结果表明,先驱体气相浓度对Y2O3涂层生长方式和涂层与基片的结合强度有很大影响;沉积温度在600℃～700℃范围内,随着温度的升高涂层致密度提高,空洞缺陷减少.     

YAG单晶基片的精密抛光及SPM检测

利用扫描探针显微镜(SPM)对YAG单晶基片精密加工表面进行了检测,获得了YAG单晶基片表面及表面层的基本特征,表明了SPM作为表面物理量检测是一种重要显微工具.     

用氮化铝基片制成的高功率小型开关

固态ＰＩＮ二极管开关比等效机电式或铁氧体式开关更快、更小，可靠性也更高。因此，在低功率和高功率运用中，它们被广泛用作控制元件。     

超高反射率的激光反射镜制造中的波度

分析了超光滑反射镜基片的表面波度对反射率的影响。利用Form Talysurf轮廓仪和高分辨率激光轮廓仪对经古典抛光法加工的基片进行检测,其表面波度的波幅为5～30nm,波距为100～150μm。还分析了古典抛光法表面波度的形成规律,并给出了实测结果。