用离子注入改善动压轴承材料WC—Ni表面性能的研究

对动压轴承用材料WC-Ni进行N~+、B~+、N~++B~+、N~++Cr~+、B~++Cr~+注入,在一定的注入剂量和注入能量条件下,注入后其表面显微硬度提高了30％左右。其中相同注入剂量的N~+比B~+注入硬化效果要好;多元素N~++B~+、N~++Cr~+、B~++Cr、比单元素N~+和B~+注入硬化效果要好;N~+的最佳(饱和)注入剂量为(2～3)×10~(17)Ion/cm~2。并且N~+、B~+、N~++B~+注入能改善WC-Ni材料与GCr15钢球摩擦副之间的摩擦,降低摩擦系数。特别是N~+注入使摩擦系数下降了大约1倍。分析认为:表面辐照损伤和固溶强化是注入硬化的主要机理。摩擦副之间的粘着性改善或恶化是离子注入降低或增加摩擦系数力主要机理。注入的N~+在WC-Ni材料表面呈近似高斯分布,N~+:2×10~(17)Ion/cm~2注入深度约为180nm。     

往返火星只需90天可能吗?

《空间瞭望》2004年第39期刊登了一篇题为“新型推进技术往返火星只需90天”的译自www.spaceref.com的文章．国内数家报纸和网站也登载了类似的报道．该文章称：     

用于薄膜技术的多功能高频溅射仪

介绍多功能高频溅射仪,这是一台具有自动气体流量控制和自动基片加热控制装置的三靶式磁控仪.它能进行基片加偏压溅射、反应溅射以及底溅射等,是目前国内较完善的薄膜制备设备.着重介绍他激振荡电源、磁控靶、传输线等设计特点;对影响溅射速率的因素以及两种特殊作用的溅射即衬底偏压溅射和衬底加热溅射作了讨论;最后介绍溅射的最新应用.     

离子束增强热扩散高速渗镀的技术探索

提出了一种新的表面改性技术——离子束增强热扩散高速渗镀技术,利用此项技术对高速钢 W18Cr4V 进行了渗镀钛的处理。     

离子束加工和离子镀膜简介

针对超精细加工的技术要求,叙述了离子加工应用技术的发展概况、各型号离子束刻蚀机的性能及使用效果,阐述了离子镀膜的基本原理与特点。这种镀膜对零、部件表面的保护及性能改善有重要作用。     

Fabrication of Diamond-like Carbon Films by Ion Assisted Middle Frequency Unbalanced Magnetron Sputtering

Diamond-like carbon （DLC） films are deposited by the Hall ion source assisted by the mid-frequency unbalanced magnetron sputtering technique. The effects of the substrate voltage bias, the substrate temperature, the Hall discharging current and the argon/nitrogen ratio on the DLC film＇s performance were studied. The experimental results show that the film＇s surface roughness, the hardness and the Young＇s modulus increase firstly and then decrease with the bias voltage incrementally increases. Also when the substrate temperature rises, the surface roughness of the film varies slightly, but its hardness and Young＇s modulus firstly increase followed by a sharp decrease when the temperature surpassing 120 ℃. With the Hall discharging current incrementally rising, the hardness and Young＇s modulus of the film decrease and the surface roughness of the film on 316L stainless steel firstly decreased and then remains constant.     

石英玻璃的等离子体抛光技术研究现状

具有耐腐蚀、热膨胀系数低等诸多优良物理化学特性的石英玻璃在高性能光学系统中被广泛使用。要求元件达到纳米级别的表面粗糙度，而且没有损伤层和残余应力，因此精加工之后的超精密抛光工序尤为重要。本文介绍了气囊、磁流变、弹性发射、离子束等几种石英玻璃的精密抛光方法，侧重阐述了国内外等离子体的抛光技术，包括等离子体辅助化学刻蚀、等离子体喷射加工、等离子化学蒸发加工研究进展及取得的成果；且对等离子体的未来发展进行概述。     

基于正交试验法的FEEP聚焦电极阵列设计策略

为消除场致发射电推力器（Field emission electric propulsion,FEEP）羽流发散角度过大给推进器寿命和可靠性带来的不利影响,研究了聚焦电极阵列空间位置对羽流聚焦效果的影响,并通过正交试验法给出了最优电极分布。通过数值仿真对FEEP的离子运动过程建模,采用正交试验方法电极阵列进行研究,关注其在不同空间位置下的聚焦效果,得到了离子出射半角分布和推力大小。结果表明,聚焦极的位置决定了羽流的聚焦效果,其次是提取极和加速极;聚焦极径向距离发射极1600μm,且提取极径向和轴向坐标为（800μm,500μm）时能得到最优的聚焦效果。本文验证了正交试验方法在聚焦电极阵列设计上的可行性,同时还为聚焦电极阵列设计提供了有效的分析方法和设计策略。