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61.
利用直流撞击式喷注器组织燃烧的发动机推力室喉部材料耐温极限制约了发动机燃烧效率提升,一种新型高性能直流冷壁式喷注器可以解决这一问题,为了指导这种新型喷注器的设计,从射流撞击雾化实验出发,探索了圆射流撞壁雾化规律。采用高速摄影捕获溅射雾化场整体形态,利用收集法测量溅射雾化率,选用PDA和PIV分别测量溅射液滴粒径及速度矢量。研究结果表明:射流撞壁后存在溅射,溅射液滴局部呈现螺旋状,液滴粒径为几十微米量级,溅射雾化率随撞击距离的变化规律可分为4个典型阶段:初始段、发展段、稳定段、衰减段,湍流动能为溅射雾化率的决定因素。 相似文献
62.
利用束流修正理论和蒙特卡罗模拟法对离子束加工中某一工艺参数下工件吸收的功率进行理论建模,然后采用测温实验对理论模型进行验证.设计实验时,利用有限元仿真确定了一种合理的轰击靶材铜,简化了实验并且方便了计算. 相似文献
63.
侯良解旭辉周林丁杰 《航空精密制造技术》2013,(5):17-20
研究了聚焦离子光学系统设计的基本原理和方法,并在自研的离子光学系统上通过实验验证了设计的可行性。在一块直径为100mm的微晶玻璃上进行了去除函数的性能测试实验。在屏栅电压900eV,屏栅电流25mA,5mm光阑,20mm靶距的条件下获得了3.78mm宽度(FWHM),226nm/min去除量的高斯型去除函数。 相似文献
64.
65.
针对目前对真空舱背溅射沉积污染的计算模型误差较大的问题,对地面实验中离子推力器的背溅射沉积污染效应开展了研究,提出了更精确的计算模型。由于Reynolds的模型对束流密度在轴向上误差较大,采用改进型的离子束流模型对偏离推力器80 cm位置的真空舱背溅射沉积率做了计算,并与实验结果对比校验,结果吻合较好。用校验过的模型对光舱环境和防溅射靶环境的背溅射沉积效应开展研究,研究结果显示:光舱工况的返流沉积率为2.36×10-10 g/(cm2·s),安装防溅射分子屏的工况在推力器上的背溅射沉积率为2.51×10-11 g/(cm2·s),结果表明添加防溅射分子屏后背溅射沉积污染量可以降低近1个量级。 相似文献
66.
67.
霍尔推力器放电室壁面经受低能量(不大于300e V)离子的溅射是影响其寿命的关键因素之一。为了获得放电室壁面材料(BNSi O2)的溅射产额随离子入射角度和能量的变化规律,采用真实霍尔推力器提供275e V的氙离子在真空舱内轰击靶材,利用称重法获得实验参数下的溅射产额。为了克服单纯依靠实验测量耗时耗钱且更低能量的离子溅射实验测量误差会陡然增大的缺点,采用前面实验结果修正了基于蒙特卡罗(MC)方法的SRIM软件溅射产额计算参数,并采用文献实验结果对不同能量下的模拟结果进行验证。在此基础上,用SRIM软件较为详细地考察了入射离子能量低于300e V时入射角度和能量对霍尔推力器放电室壁面材料溅射产额的影响规律。结果表明,溅射产额随离子入射角度先增大后减小,而随入射离子能量则呈现增大的趋势,但当能量小于100e V时,溅射产额逐渐趋于一个非常小的数值。 相似文献
68.
IBAD法沉积TiN薄膜的机械和耐腐性 总被引:4,自引:0,他引:4
用离子束辅助沉积(IBAD)方法在医用不锈钢317L基底上沉积TiN陶瓷薄膜。通过X射线衍射(XRD)和俄歇电子能谱(AES)分析研究了薄膜的微结构;测试了薄膜的耐磨性及薄膜与基底的附着力:运用电化学腐蚀的方法检测了薄膜在Hank’s模拟体液中的耐腐蚀性能。研究结果表明:用高、低能氮离子束兼用的IBAD方法沉积TiN多晶薄膜后,材料表面结构和性能发生明显改变。表面硬度和耐磨性有明显提高,在Hank’s模拟体液中显示出更强的抗腐蚀能力。 相似文献
69.
金属基纳米复合材料的制备技术研究 总被引:17,自引:1,他引:17
综述了复合材料家族中的新成员——金属基纳米复合材料制备技术的国内外研究现状和本课题组近期取得的研究成果,对6大类工艺方法的机理、特点、适用范围和现阶段开发程度,以及由这些制备工艺所开发出的新材料的优异的机械、物理、化学性能进行了全面分析,并综合评价了各种工艺的优缺点。在展望金属基纳米复合材料广阔的应用前景基础上,指出了其制备技术未来的发展方向。 相似文献
70.
本文介绍了一种新的应变式压力传感器,它利用石英多晶作为弹性元件,用阴极溅射法制成应变电阻。本文对传感器的结构设计、制作工艺都做了较详细的探讨和研究,并制成一个传感器样品,对其作了一系列性能测试。 相似文献