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1.
采用药剂稳定化、水泥固化以及二者结合等方法对锌渣进行了处理研究。结果表明重金属螯合剂的药剂稳定化和水泥固化相结合的方法处理锌渣,其重金属含量可以低于固体废物毒性浸出标准的限值,能有效控制对周围环境的污染。所以,采用药剂稳定化和水泥固化结合的方法处理锌渣是完全可行的。 相似文献
2.
3.
4.
概述了CVD—Si3N4陶瓷及其复合材料在干燥氧气下的氧化行为。Si3N4陶瓷在高温下氧化时,除生成SiO2保护膜外,还生成一薄层比SiO2膜更优异的氧气扩散阻挡层(Si—O—N化合物层),该层具有优异的抗氧化性能。介绍了两种氧化机制模型,同时分析了温度、杂质等对CVD—Si3N4陶瓷氧化行为的影响。 相似文献
5.
研究了制备工艺对微波等离子体CVD金刚石成膜质量的影响。详细讨论了基片在等离子体中的位置、基片台结构、N2等离子体预处理及启动条件对金刚石成膜均匀性的影响。提出了能获得均匀金刚石膜的制备工艺程序。 相似文献
6.
以CH3SiCl3 H2体系在1000~1300℃沉积了SiC涂层,研究了温度对涂层沉积速率的影响,应用自发形核理论解释了不同沉积温度下CVDSiC涂层的组织结构。结果表明,随着沉积温度的提高,CVDSiC涂层的沉积速率相应增大;1000~1200℃沉积过程为化学动力学控制过程,1200~1300℃沉积过程为质量转移控制,1000℃和1100℃沉积的SiC涂层表面光滑、致密;1200℃和1300℃沉积的SiC涂层表面粗糙、多孔;随着沉积温度的提高,CVDSiC涂层的晶体结构趋于完整,当温度超过1150℃时,涂层中除β SiC外还出现了少量α SiC。 相似文献
7.
为提高模用锌合金ZA4-3的性能,扩大其应用范围,本项工作采用流变铸造法成功地制备了性能稳定的Al2O3P/ZA4-3复合材料。对该材料进行了弯曲强度、冲击韧性、压缩强度、硬度及耐磨性等性能试验,结果表明:Al2O3p的加入,使锌合金的压缩强度、室温和高温硬度以及耐磨性明显提高,其弯曲强度略有降低,而其冲击韧性下降了 。最后还讨论了成形工艺参数、颗粒含量和颗粒直径对该复合材料性能的影响。 相似文献
8.
在HFCVD系统中施加栅极偏压和衬底偏压,采用双偏压成核和栅极偏压生长的方法成功制备了高质量的纳米金刚石薄膜.采用显微Raman高分辨率SEM和AFM等现代理化分析手段分析纳米金刚石膜的微结构,结果表明双偏压显著促进了金刚石的成核密度,平均晶粒尺寸在20 nm以内.试验观察和理论分析表明栅极偏压促进了热丝附近的等离子体浓度,提高了衬底附近的碳氢基团和氢原子浓度,提高了金刚石的成核密度、在保持晶粒的纳米尺寸的同时保持了较高的成膜质量和较低的生长缺陷. 相似文献
9.
电沉积CeO2/Zn纳米复合涂层 总被引:5,自引:0,他引:5
将纳米氧化铈颗粒加入镀锌液中进行复电沉积制得纳米复合涂层。通过失重法,ICP,SEM和XRD方法探讨了纳米氧化铈颗粒对电沉积锌涂层的影响。结果表明,在同样的电沉积条件下,纳米复合涂层的耐蚀性明显提高,而微米复合涂层的耐蚀性只稍有改善;纳米复合涂层中氧化铈的含量高于微米复合涂层中的氧化铈含量。纳米氧化铈颗粒改变了锌涂层的表面组织形貌和晶体结构,从而提高了涂层的耐蚀性。 相似文献
10.
基于Cr过渡层沉积CVD金刚石涂层的试验研究 总被引:5,自引:0,他引:5
研究了在硬质合金上基于Cr过渡层沉积CVD(Chemical vapor deposition)金刚石涂层的工艺,利用自制的CVD金刚石沉积设备制备出晶形完整、晶粒大小均匀、分布连续的金刚石涂层。用SEM和Raman光谱对CVD金刚石涂层进行了分析。结果表明,沉积工艺对金刚石的形态和成分有显著影响,基体温度在800℃左右时,可以得到晶形完整,非金刚石成分较少,与基体结合紧密的CVD金刚石涂层。 相似文献