| 基于Cr过渡层沉积CVD金刚石涂层的试验研究 |
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| 引用本文： | 卢文壮,左敦稳,王珉,黎向锋.基于Cr过渡层沉积CVD金刚石涂层的试验研究[J].南京航空航天大学学报,2004,36(4):462-465. |
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| 作者姓名： | 卢文壮 左敦稳 王珉 黎向锋 |
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| 作者单位： | 南京航空航天大学机电学院,南京,210016 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金 ( 5 9975 0 45 )资助项目 |
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| 摘 要： | 研究了在硬质合金上基于Cr过渡层沉积CVD(Chemical vapor deposition)金刚石涂层的工艺，利用自制的CVD金刚石沉积设备制备出晶形完整、晶粒大小均匀、分布连续的金刚石涂层。用SEM和Raman光谱对CVD金刚石涂层进行了分析。结果表明，沉积工艺对金刚石的形态和成分有显著影响，基体温度在800℃左右时，可以得到晶形完整，非金刚石成分较少，与基体结合紧密的CVD金刚石涂层。
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| 关 键 词： | 化学气相沉积 金刚石涂层 试验研究 Cr过渡层 硬质合金 刀具 |
| 文章编号： | 1005-2615(2004)04-0462-04 |
| 修稿时间： | 2003年9月3日 |
Deposition of CVD Diamond Thin Film on Carbide Substrate by Using Cr Interlayer |
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| LU Wen-zhuang,ZUO Dun-wen,WANG Min,LI Xiang-feng.Deposition of CVD Diamond Thin Film on Carbide Substrate by Using Cr Interlayer[J].Journal of Nanjing University of Aeronautics & Astronautics,2004,36(4):462-465. |
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| Authors: | LU Wen-zhuang ZUO Dun-wen WANG Min LI Xiang-feng |
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| Keywords: | CVD diamond thin film Cr interlayer cemented carbide |
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