| CVD-Si3N4陶瓷及其复合材料氧化行为研究进展 |
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| 引用本文： | 余惠琴%闫联生.CVD-Si3N4陶瓷及其复合材料氧化行为研究进展[J].宇航材料工艺,2003,33(3):13-16. |
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| 作者姓名： | 余惠琴%闫联生 |
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| 作者单位： | 陕西非金属材料工艺研究所,西安,710025 |
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| 摘 要： | 概述了CVD—Si3N4陶瓷及其复合材料在干燥氧气下的氧化行为。Si3N4陶瓷在高温下氧化时，除生成SiO2保护膜外，还生成一薄层比SiO2膜更优异的氧气扩散阻挡层(Si—O—N化合物层)，该层具有优异的抗氧化性能。介绍了两种氧化机制模型，同时分析了温度、杂质等对CVD—Si3N4陶瓷氧化行为的影响。
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| 关 键 词： | CVD—Si3N4陶瓷 氧化行为 复合材料 氮化硅 连续纤维增强材料 保护膜 抗氧化性能 航空材料 航天材料 |
Oxidation Behavior of CVD Si3N4 Ceramic and Its Composite |
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| Yu Huiqin,Yan Liansheng.Oxidation Behavior of CVD Si3N4 Ceramic and Its Composite[J].Aerospace Materials & Technology,2003,33(3):13-16. |
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| Authors: | Yu Huiqin Yan Liansheng |
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| Abstract: | This paper reviews the oxidation behavior and oxidation modes of CVD Si 3N 4 ceramic in dry oxygen.At high temperature,Si 3N 4 is oxidized to form a thin layer of silicon oxynitride (Si O N) as an excellent oxygen barrier in addition to silica (SiO 2) film formation.Two types of oxidation mode are described.Furthermore,the effect of temperature and impurity on oxidation behavior of CVD Si 3N 4 is also analyzed. |
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| Keywords: | CVD Si 3N 4 Oxidation behavior Oxidation mode |
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