合成抛光革的粘弹性特性及对抛光质量的影响

粘弹性特性是决定合成抛光车抛光性能的重要因素。实验研究了合成抛光革粘弹性特性中瞬间弹性变形ｕ、延迟弹性变形ｖ和塑性变形ｗ的大小，分析了这３种变形对抛光精度和抛光质量的影响。     

异形长径比孔腔的光整加工

比较了粘弹性磨料流抛光工艺与柔性磨体振动抛光工艺在抛光大长径比孔腔时在粗糙度、效率方面的差异，通过理论分析和实验证明，得出柔性磨体振动抛光工艺在抛光效率和抛光精度上优于粘弹性磨料流抛光工艺     

KDP晶体潮解抛光行程的分析

在对KDP晶体潮解抛光原理进行阐述的基础上，对KDP晶体潮解抛光过程进行了运动学分析，得到了KDP晶体表面上一点相对于抛光垫的抛光行程的表达式。根据抛光行程表达式和计算条件，分别计算了载样盘转数、载样盘圆心与抛光垫圆心之间的水平距离、载样盘圆心与其摆动圆心之间的水平距离、摆动周期取不同值时KDP晶体表面上一点相对于抛光垫的抛光行程，并绘制了抛光行程曲线，通过对抛光行程曲线的分析，得到了这些参数对抛光行程的影响规律。     

光学材料的浅低温抛光方法

介绍了光学材料的浅低温抛光方法,首先把抛光液冷冻成低温抛光模层,然后进行抛光实验。实验结果表明,这是一种很好的抛光方法．     

光学元件抛光亚表面损伤实验研究

设计光学元件抛光亚表面损伤检测实验,使用原子力显微镜(AFM)检测传统抛光亚表面塑性划痕与磁流变抛光亚表面塑性划痕的最大深度,通过比较验证磁流变抛光对亚表面塑性划痕的抑制能力;同时利用二次离子质谱仪的深度剖析功能检测磁流变抛光石英样件后表面水解层的深度,指出磁流变抛光属于低损伤性抛光技术。     

基于UG的超声波磁流变复合抛光面形误差修正方法研究

基于UG\CAM生成非球面的抛光轨迹,利用UG\Post Builder开发了针对超声波磁流变复合抛光装置的后置处理器,自动生成抛光非球面的NC代码;构建了集成仿真与验证(ISV)系统,对加工过程中机床运动的正确性进行仿真验证;将生成的NC代码和驻留时间相结合,控制抛光轨迹上各点的驻留时间,实现抛光工具在工件表面材料的确定性去除。经实验验证,一次加工后工件表面的峰谷值PV由73.8nm降到43.7nm。     

复杂结构薄壁件小直径永磁球头磁流变抛光技术

针对一种复杂结构薄壁件的结构特点和加工精度要求,在磁流变抛光原理的基础上,设计了小直径永磁球头的加工工艺。本文详细分析了工件的磁流变抛光工艺要求,并在此基础上确立了工件的小直径永磁球头磁流变抛光加工方法。通过自行研制的磁流变抛光机床对工件进行加工验证实验,经过加工工件的表面粗糙度由645.8nm减小到18.7nm,表明了采用小直径永磁球头磁流变抛光方法对工件进行抛光,可以得到较好抛光表面质量,达到了工件的精度要求,进而验证了该方法的正确性。     

抛光参量对抛光光学元件亚表层的影响

研究了抛光粉的种类、抛光速度的大小以及抛光玻璃的性质等抛光参量对光学元件亚表层特征的影响,并结合抛光机理进行了分析。     

基于球形磨头抛光技术的SiC抛物面镜抛光

针对用CCOS小工具研抛技术抛光材质较硬以及陡度较高的SiC非球面镜时,面形误差收敛太慢,研究了一种新型的球形磨头抛光技术,其去除函数稳定性较好,形状趋于高斯分布且束径也较小,对修正局部面形误差具有较好的效果.为了使该技术能应用于抛光,对球头抛光工具进行了刀具补偿.     

超精密光学抛光研究的进展及其发展趋势

综述了对精密光学抛光影响精度和质量的因素，对重要因素目前的研究进展进行了分析；介绍了新型超精密光学抛光技术及其达到的水平；还提出了精密先学抛光的发展趋势．     

开式整体叶盘叶片型面数控抛光编程与工艺实验研究

针对开式整体叶盘叶片型面数控抛光,首先介绍多坐标数控抛光机,然后提出分段直纹面拟合叶片型面,并利用分段直纹面的偏置面直母线生成刀位轨迹,最后进行了数控抛光参数优化实验,实现了整体叶盘叶片的自动化高效精密抛光,提高了整体叶盘的表面质量.     

一种新型古典抛光工艺的技术研究

对抛光模的制作、抛光粉的添加、加压的方式以及抛光后的清洗这一整套生产流程中所涉及的核心技术进行了部分改进和详细介绍,并最终给出了古典法抛光后的玻璃表面利用AFM检测后的表面形貌图,表面的粗糙度、划痕等微观缺陷明显改善。     

薄壁微三维结构件超精密研抛技术研究

针对影响薄壁微结构件超精密研抛的工艺因素,即单次进给量、研磨轨迹、研磨膏选择和去除量精确控制,通过大量的研抛加工试验,进行研抛工艺研究,得到能实现稳定和理想加工结果的研抛工艺,很好的满足零件性能要求。     

碳纤维-微晶复合材料反射镜光学加工实验

采用环抛方法对有预埋件和无预埋件的两块碳纤维-微晶复合材料反射镜进行光学加工,之后进行了稳定性实验研究,采用Zygo干涉仪实测了碳纤维-微晶复合材料反射镜面形.稳定实验后,有预埋件反射镜面形P-V值为3.013λ,RMS值为0.669λ;无预埋件反射镜面形P-V值为2.313λ,RMS值为0.276λ(λ=632.8 nm).实验结果证明,有预埋件的碳纤维-微晶复合材料反射镜结构优于无预埋件结构,为碳纤维-微晶复合材料反射镜的工程化提供参考.     

CMP加工过程中加工载荷对液膜厚度的影响分析

本文采用激光诱导荧光技术(LIF)来研究抛光参数对化学机械抛光加工区液膜厚度的影响.研究表明,抛光液膜厚度随着抛光载荷的增加而减少,减小的趋势随抛光载荷的提高而减缓.同时液膜厚度随着抛光速度的增加而变大.通过抛光参数的变化对抛光液液膜厚度影响的分析,为改善CMP加工工艺提供理论性的依据.     

脆硬材料光滑表面的波纹度及其产生机制初探

分析了通过不同方法加工获得的表同的波纹度，初步探索了波纹度产生的原因，并提出了减小抛光中波纹度的方案。     

非球面零件超精密加工技术

介绍了非球面零件超精密切削、超精密磨削、超精密抛光（研磨）、等离子体的CVM、复制等技术的超精密加工方法．     

类芬顿反应在碳化硅光学材料研抛中的作用

本文讨论了以零价铁代替亚铁盐形成类芬顿反应(Fenton-Kind process)体系应用于碳化硅光学材料抛光过程中的反应机理,通过双转子研抛机床对SiC光学材料进行了研抛实验,验证了类芬顿反应能够有效地提高SiC材料的加工效率和加工质量。通过对比不同磨料粒度研抛液加工结果,获得了SiC材料研抛过程中化学与机械作用规律。     

激光陀螺反射镜超光滑表面加工技术的研究

本文分析了激光陀螺反射镜表面粗糙度对激光陀螺精度的影响,对激光陀螺反射镜超光滑表面加工方法进行了系列改进,显著提高了激光陀螺反射镜超光滑表面加工水平,对激光陀螺研制水平的提高有重要意义。