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目前针对国内薄膜瞬态热流传感器一致性较差、制备工艺不成熟等问题,提出了一种基于光刻工艺和离子束溅射镀膜工艺的制备方法,200对T型金属薄膜热电偶沉积在10mm×10mm的水冷块上,测量1μm的氧化铝热阻层温差,从而得到瞬态热流密度值。对新型高温瞬态热流密度传感器进行比对法标定,一致性误差为0.211%,即工艺的一致性约为99.79%。实验表明,研制的新型高温瞬态热流密度传感器的一致性好,制备工艺具备良好重复性和可移植性,能够满足高温瞬态热流检测需要,为热流传感器的推广应用及标准化、批量化生产提供了良好的技术支撑。 相似文献
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用于合成金刚石薄膜的微波等离子体CVD系统 总被引:2,自引:0,他引:2
研制了一套功率容量大、结构合理、工作稳定的微波等离子体CVD系统。描述了系统的基本结构和性能,讨论了它的特点。作者利用该系统,在单晶Si等衬底材料上成功地合成了金刚石薄膜。 相似文献
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鼓泡法在金刚石薄膜/硅基界面结合强度定量测量中的应用分析与试验研究 总被引:1,自引:0,他引:1
在分析现有的各种关于薄膜性能评价试验方法的基础上,从实验角度探讨了有关鼓泡力学模型在金刚石薄膜/硅基结合强度的测量评价方面应用的可行性。 相似文献
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介绍用脉冲电子束烧蚀法在不同温度的单晶硅 (1 1 0 )衬底上沉积铌酸锂铁电薄膜 ,以及用脉冲电子束进行薄膜晶化处理的实验结果 ;使用扫描电子显微镜 (SEM)、X射线衍射 (XRD)、光电子能谱 (XPS)等方法 ,对薄膜的成份、晶体结构及表面形貌进行分析测试。采用表面轮廓仪测定 LN薄膜的膜厚分布均匀性等。文中探讨了靶材料烧蚀和沉积过程中出现的诸多现象。研究表明 ,这种薄膜制备方法有许多独特之处 ,随着该项技术的不断改进和发展 ,将为光电集成电路提供一种新工艺和新技术 相似文献
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