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相似文献
 共查询到17条相似文献,搜索用时 46 毫秒
1.
采用无机溶胶-凝胶法制备VO2相变薄膜,该薄膜相变时的电阻(率)突变可达4~5个数量级。并用XRD,DSC和TGA法研究了制膜过程中干凝胶膜的层状非晶纳米结构。通过适当的非晶晶化过程及随后V2O5→VO2转变的真空热处理,可获得带有空洞(void)结构的低密度纳米薄膜,从而使电阻(率)突变特性异常优异  相似文献   

2.
张力军  肖颍越  程鹏 《航空学报》2000,21(3):267-269
 用鲁棒控制理论中的规范化左互质因子分解(规范化LCF)法为某型飞机设计纵向飞/推综合控制器,并总结了该方法的一些特点和设计要求。设计出的控制器满足实际工程要求,得到比较满意的控制效果。  相似文献   

3.
基于LMI的航空发动机鲁棒H<sub>∞</sub>控制器设计   总被引:2,自引:0,他引:2  
谢光华  曾庆福 《航空学报》2000,21(2):175-178
 研究了系统矩阵均具有参数不确定性系统的非标准H鲁棒控制问题。基于 LMI的H控制器设计方法,给出了参数不确定性系统用 3个线性矩阵不等式表征的非标准H控制问题可解的充分必要条件,采用“内点法”求解线性矩阵不等式,可得使闭环系统对于所有可能的参数不确定性均二次稳定且传递函数的H∞ 范数 γ有界的鲁棒控制解。该方法应用于非“标准”系统——某型双转子涡喷发动机稳态双变量调节控制器的设计,通过在气动热力学模型上的仿真结果表明,取得了良好的结果。  相似文献   

4.
王睿  祝小平  周洲  王鹏 《航空学报》2008,29(4):1031-1036
 在设计飞翼式无人机(UAV)的横航向飞行控制系统时,为了使无人机具有较好的动态特性和阵风抑制能力,同时又便于工程实现,提出了固定结构的H2/H控制律设计方法。对于由此遇到的双线性矩阵不等式(BMI)问题,先用线性矩阵不等式(LMI)方法得到控制律参数和H2/H性能指标的映射关系,再用此映射关系作为适应度函数,用改进的遗传算法求解使H2/H性能最优的控制律参数。仿真结果表明,使用固定结构的H2/H控制方法的无人机动态响应迅速平滑,在侧风干扰下的滚转角振荡幅值仅是原经典控制方法的一半。  相似文献   

5.
溶胶-凝胶法制备纳米SiO2/CE复合材料的研究   总被引:14,自引:1,他引:14  
采用溶胶-凝胶法,利用正硅酸乙酯(TEOS)在有机溶剂中的水解-缩合制备纳米SiO2.将所制备的纳米SiO2用于改性双酚A型氰酸酯树脂(BADCy),制备纳米SiO2/BADCy浇铸体.采用透射电镜(TEM)分析SiO2在BADCy基体中的分散性,同时测试了复合材料的力学性能.结果表明,粒径为20~50 nm的SiO2在基体中以纳米量级均匀分散,与BADCy结合界面模糊,两者具有较好粘结性;添加纳米SiO2可以明显提高复合材料的冲击强度和弯曲强度,当纳米SiO2的含量为4%时,力学性能改性效果最佳.  相似文献   

6.
探讨了一种制备多孔性氮化钛薄膜的新方法。以钛酸正丁酯TIR为前驱物,通过溶胶-凝胶(sol_gel)过程可在不锈钢等基体材料表面涂覆一定厚度的TiO2凝胶膜。X-射线衍射分析(XRD)表明,以NH3气作为氮化气氛,能完成在TiO2薄膜到TiN薄膜的转变。  相似文献   

7.
朱立群  陈海宁  李卫平 《航空学报》2009,30(11):2229-2233
 针对目前电沉积法制备的CuInS2(CIS)薄膜存在S元素含量不足以及微观形貌差的问题,通过在普通镀液中加入SiO2溶胶,采用一步电沉积技术在ITO导电玻璃上制备Cu In S预制薄膜,镀液的主要组成为金属盐、硫代硫酸钠和不同浓度SiO2溶胶。在空气气氛中对Cu In S预制薄膜进行退火处理以获得多晶的CIS薄膜,并通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、能量色散谱仪(EDS)及开路电位对CIS薄膜的结构、形貌、成分组成及光响应性能进行研究。结果表明:SiO2溶胶浓度为4 mL/L时,得到的CIS薄膜的结晶度提高,同时,SiO2溶胶作用下得到的CIS薄膜的表面形貌、成分组成和光响应性能都得到改善。因此,镀液中加入SiO2溶胶有利于提高CIS薄膜的性能,尤其是浓度为4 mL/L时,性能提高得最为明显。  相似文献   

8.
采用溶胶-凝胶法,以钛酸丁酯为前驱体,乙二醇作为螯合剂制备纳米TiO2 粒子。考察钛的乙二
醇盐的浓度、pH 值、温度等因素对TiO2 粒径的影响,并用红外光谱和SEM 对纳米TiO2 粒子进行结构和形貌表
征。结果表明,采用溶胶凝胶法可以制备出呈椭圆形且粒径分布均匀的TiO2 纳米粒子。使用硝酸铵可以有效
阻止TiO2 纳米粒子团聚。当pH 值为2 ~3、温度为20 ~40℃,钛的乙二醇盐在丙酮中的浓度为0. 03、0. 05 及
0. 07 M 时,粒径分别为150、240 及600 nm。
  相似文献   

9.
为研究不同钝化工艺栅介质用SiO2薄膜的高能电子辐射缺陷特征,采用能量为1 MeV的高能电子在辐照注量为1×1015 e/cm2、5×1015 e/cm2和1×1016e/cm2下对三种不同钝化工艺(I,700 nm SiN + 500 nm PSG;II,1.2 μm SiN;III,700 nm PSG + 500 nm SiN)的SiO2薄膜进行了辐照试验。拉曼光谱和X射线光电子能谱结果表明I和III钝化工艺SiO2薄膜形成了非晶硅及双氧根离子,傅立叶红外光谱结果表明I钝化工艺SiO2薄膜形成缺陷结构未知的A1、A2、B1及B2缺陷;II钝化工艺SiO2薄膜形成A1、B1、及 缺陷;III钝化工艺SiO2薄膜形成A1及B2缺陷。  相似文献   

10.
金石  朱保华 《航空学报》1988,9(9):466-474
 应用电化学-断裂力学方法研究了30CrMnSiNi2A钢在室温模拟潮湿大气(H2O)及海洋大气(3.5%NaCl)环境中低K范围内不同电位下的疲劳裂纹扩展特性。通过动力学及断口分析,提出在KImaxIscc范围内高强度钢可发生循环应力腐蚀开裂,其湿腐蚀疲劳失效机理应是裂尖局部阳极溶解与氢脆共同作用,且两者对△Kth及da/dN的意义不同,从而对以往高强度钢湿腐蚀疲劳的纯氢脆模型作出修正。  相似文献   

11.
一般的热力计算软件很少计及凝相物质的相变过程,当燃烧产物温度接近某凝相物质的相变温度时,将出现迭代计算不收敛。根据能量守恒、喉部单位质量流量的流通面积最小和等熵关系,提出了凝相物质在燃烧室、喷喉和喷管出口处于相变过程的热力计算方法,并给出了算例。  相似文献   

12.
某型发动机涡轮前后温度分布的研究   总被引:2,自引:1,他引:2  
阐述了在某型涡喷发动机上测量涡轮前、后温度分布的方法,并对测量结果进行了分析,得出\"涡轮后温度分布不能代替燃烧室出口(涡轮前)温度分布\"的结论。  相似文献   

13.
低压涡轮叶栅流动中转捩模型的校验及改进   总被引:1,自引:0,他引:1  
罗天培  柳阳威  陆利蓬 《航空学报》2013,34(7):1548-1562
为评估并提高现有转捩模型的预测精度,采用计算流体力学(CFD)软件FLUENT 12.1,选取层流模型、全湍流模型、剪切应力输运(SST)低雷诺数模型、k-kl-ω模型以及γ-Reθ模型对低压涡轮叶栅T106-EIZ进行数值模拟,通过与实验数据的对比校验了后3种模型对于转捩以及相关参数的模拟能力,并对结果以及模型的作用机理进行分析,校验结果表明所有模型都不能准确地预测分离流转捩以及尾迹诱导转捩.选取预测效果较好的γ-Reθ模型进行了修正,提出通过修改间歇因子输运方程中的参数Ca1和Ca2的方法来修正该模型,结果表明该方法可以提高模拟精度.  相似文献   

14.
针对目前电沉积法制备的CuInS_2(CIS)薄膜存在S元素含量不足以及微观形貌差的问题,通过在普通镀液中加入SiO_2溶胶,采用一步电沉积技术在ITO导电玻璃上制备Cu-In-S预制薄膜,镀液的主要组成为金属盐、硫代硫酸钠和不同浓度SiO_2溶胶.在空气气氛中对Cu-In-S预制薄膜进行退火处理以获得多晶的CIS薄膜,并通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、能量色散谱仪(EDS)及开路电位对CIS薄膜的结构、形貌、成分组成及光响应性能进行研究.结果表明:SiO_2溶胶浓度为4 mL/L时,得到的CIS薄膜的结晶度提高,同时,SiO_2溶胶作用下得到的CIS薄膜的表面形貌、成分组成和光响应性能都得到改善.因此,镀液中加入SiO_2溶胶有利于提高CIS薄膜的性能,尤其是浓度为4 mL/L时,性能提高得最为明显.  相似文献   

15.
Sol-gel法制备CuSO4,Cu(AC)2掺杂SnO2的气敏性能研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
以溶胶-凝胶法(Sol-gel)制备纳米SnO2及其不同比例的铜源掺杂物.采用热分析(TG-DTA),XRD等手段对其产物进行表征,利用静态配气法测试了掺杂产物的气敏性能.实验结果表明:采用Sol-gel法制备掺杂SnO2的气敏性能,同时受铜源和掺杂量的影响,且掺杂产物对乙醇不很敏感,但在150℃工作温度下对0.005%的H2S具有36367倍的高灵敏度.  相似文献   

16.
对CVD金刚石膜的离子束铣削、电子束加工、激光加工、化学辅助机械抛光、热化学抛光等抛光技术的加工方法与原理进行了介绍,分析了这些方法的优点和不足之处。并展望了CVD金刚石薄膜抛光技术的发展方向。  相似文献   

17.
电沉积太阳电池用Cu(In,Ga)Se2薄膜   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
在Mo基底上,采用恒电位法从含有CuCl2、InCl3、GaCl3、H2SeO3、柠檬酸的水溶液中电沉积制备Cu(In,Ga)Se2薄膜,用HCl调节pH值为2.5,并对沉积薄膜400℃左右Ar气氛中退火20min。对退火前后的膜进行X射线衍射,扫描电镜和能谱分析仪分析,结果表明,电沉积制备的Cu(In,Ga)Se2薄膜为黄铜矿结构,退火后,共沉积薄膜的结晶度提高,晶粒尺寸增加,Se含量减少。  相似文献   

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