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给出了超声研磨工具的结构,在无法用解析法确定工具结构参数的情况下,采用大型有限元软件ANSYS仿真其实际工况,对不同结构参数的工具进行模态分析,找到其纵振频率与工作频率接近的一组参数作为有限元优化设计的初始设计序列,进行优化设计得到最优解。 相似文献
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简要介绍超精密抛光技术的发展动态,围绕精密研抛机的现有加工技术水平,开发可实现超精密抛光的控制力系统. 相似文献
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吴明根 《航空精密制造技术》1993,(2)
名古屋工业技术研究所SP46型非接触式研磨机,研磨盘与工作轴以20~200r/min的转速作同向、高精度旋转,工作悬浮在研磨盘上,在研磨液的化学作用及微细粉末粒子的撞击下产生研磨作用。轴系皆采用液体动静压轴承,可加工Φ170mm的工件。该机可加工出表面粗糙度为2nm的硅片,加工Φ100mm、厚度为30mm的BK7光学玻璃,平面度为0031μm,表面粗糙度(均方根偏差)可达0.0038μm。特别适合微电子功能材料及光学平面的超精密加工,具有广阔的应用前景。 相似文献
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申儒林 《航空精密制造技术》2006,42(2):56-59
根据硬盘磁头加工的特点,分析了抛光机的运动学特性及抛光盘、抛光液、磨粒在抛光过程中的摩擦学行为等对磁头表面质量的影响。 相似文献
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为了适应卫星轴承钢珠精化的需要,建立了研磨过程中钢珠的动力学解析模型,分析了球与四研头之间的运动、四研头转向与球面加工、摩擦力与加工精度等关系。并采用倒置式正四面体形结构,在转轴与研头之间设计了具有自适应功能的浮动联轴器,进行了钢珠加工的实验研究。 相似文献
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Withthedevelopmentandprogressinman-ufacturingtechnology,ultra-precisionmachiningbecomesaninterestingsubject,andtherearemanyre... 相似文献
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平面研磨抛光轨迹研究 总被引:2,自引:0,他引:2
介绍了平面研磨抛光轨迹均匀性的研究方法,详细阐述了双轴式(包括定偏心式和不定偏心式)、直线式、摇摆式、计算机控制小工具式单面研磨抛光轨迹和行星式双面研磨抛光轨迹的数学函数及其轨迹均匀性,指出了当前轨迹研究中存在的不足. 相似文献
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