用离子束辅助蒸发工艺镀制高性能硫化锌红外增透膜

介绍了用离子束辅助蒸发工艺在高折射率锗（Ge）基片上镇制的高性能硫化锌（ZnS）红外增透膜（也称红外减反射膜）及其工艺的研制，通过与常规热蒸发工艺镀制的硫化锌增透膜的性能相比较，证实了离子束辅助蒸发技术对提高硫化锌红外增透膜的光学特性、膜层品质及改变薄膜的结构和应力状态有良好的效果。试验表明用该技术镀制高性能硫化锌红外增透膜能满足长寿命、高可靠卫星红外地球敏感器的使用要求。     

Fe2+对碳钢硫酸盐还原菌腐蚀行为的影响

对比分析了Q235钢在无Fe2+的接菌培养基和Fe2浓度为30mg/L的接菌培养基中的腐蚀行为.使用光学显微镜跟踪观察Q235钢在两种介质中的表面形貌随时间的变化,用电化学阻抗谱研究Q235钢在两种培养基中的电化学行为.用聚焦离子束显微镜制作Q235钢在两种培养基中的腐蚀产物剖面,并用能谱对腐蚀产物进行成分分析.对电化学阻抗谱所得结果进行拟合,结果表明,Fe2会使Q235钢表面形成的生物膜电阻降低,电容升高,Q235钢反应电阻保持较低,从而使反应持续进行,铁不断溶解.培养基中加入30mg/L的Fe2+后,Q235钢表面附着的细菌显著增多,形成的生物膜厚而疏松,膜中混合有腐蚀产物硫化物,膜下的金属出现众多微小的点蚀.电化学阻抗谱拟合结果与形貌观察及成分分析结果吻合,Fe2+对Q235钢的SRB腐蚀反应具有催化作用.     

基于机床动态性能的离子束修形驻留时间精确实现

本文提出机床进给加速度求解理论公式,并在速度加工模式中引入机床动态性能以修正驻留时间.结合自研的离子束抛光机床KDIFS-500,利用该机床的动态特性和小束径去除函数,仿真正弦面误差,表明修正后速度加工模式能保证离子束修形过程中驻留时间的精确实现,提高面形精度.     

工艺参数对等离子熔覆Ni-Cr合金涂层组织及成形质量的影响

在40Cr合金钢表面等离子熔覆Ni-Cr合金涂层,研究熔覆功率和扫描速度对熔覆层组织及成形质量的影响规律.研究结果表明:熔覆层的组织从表层到与基体的结合面处依次为细晶、粗枝晶和柱状枝晶,熔覆层与基体呈现良好的冶金结合状态.当扫描速度一定时,随着熔覆功率的增大,熔覆层组织得到细化.较低功率、较大扫描速度时,熔覆层与基体的结合处存在熔合不良现象;较高功率、较小扫描速度时,熔覆层产生裂纹.能谱分析表明Ni、Cr含量在熔覆层与基体的结合面处发生显著变化,在2.0kW熔覆功率和12.0mm/s扫描速度的试验条件下得到了稀释率较低的熔覆层.     

用离子束辅助沉积(IBAD)工艺制备TiCxNy膜的研究

用离子束辅助沉积（ＩＢＡＤ）工艺在９Ｃｒ１８、ＧＣｒ１５钢基体上形成了ＴｉＣｘＮｙ膜。ＴＥＭ观察发现膜均呈多晶结构,都具有（１１１）、（２００）和（２２０）择优取向。ＡＥＳ和ＸＰＳ分析进一步证实,ＴｉＣｘＮｙ膜呈含氧配置。干摩擦表明膜的抗氧化性能优良,其存在能有效抑制基体在摩擦过程中氧化膜的形成。又由于膜的硬度高,润滑性良好,每种基体的磨损特性都得到了显著地改善。但随着基体不同,膜的力学机械性能随     

某型装备液压调平支腿动作缓慢故障分析与预防

某型装备进行液压调平调试中发现左后支腿动作明显缓慢,不能为探测跟踪机构提供稳定的工作平台,影响装备的正常工作。通过建立故障树进行排查,最终发现双向液压锁的锁芯出现磨损,更换液压锁后故障得以排除。     

惯导托架自动校准系统的算法研究

惯导托架校准是飞机装配过程中非常重要的一部分工作,但是传统的校准方法存在精度低、耗时、费力等问题。为解决这些问题,设计了一种高精度、高效率的惯导托架自动校准算法。该方法通过建立静力学数学模型,结合传统惯导校准和位置误差最高点不动调平法的思想,对平台循环进行倾斜信息测试、判断和最高点不动调平。该方法的校准精度较高,极大缩短了校准时间,提高了校准效率。     

热等离子束照射纯铁表面氮化行为的研究

以热等离子束作为等离子源,以氮气、氢气混合气体作为工作气体,对工业纯铁进行表面渗氮,并利用显微硬度仪、X射线衍射仪、SEM及能谱仪分别对氮化后试样进行显微硬度测定、相结构分析、端面形貌分析及断面成分分析,结果表明只需利用等离子束对试样进行几分钟的照射,便可获得试样表面的迅速氮化.     

陶瓷超导薄膜

自1987年初发现液氮温度下呈现超导特性的Ba_2 YCu_3O_7-δ陶瓷以来,陶瓷超导体的研究已成为物理学者、陶瓷材料学者所关注的中心。制备陶瓷超导薄膜和电路,将为液氮温度下工作的超导电子装置打开大门。本文介绍由等离子喷涂、离子束和直流磁控管溅射制备薄膜的方法,后处理过程和所达到的性能。     

光学镜面离子束抛光中的离子源稳定性研究

用线扫描方法研究某种型号的3cm卡夫曼离子源的稳定性,先介绍了线扫描法估计去除函数的方法以及其数学模型,用线扫描法扫描两块微晶镜面,估计出在不同时间的去除函数,分析去除函数的波动情况来考察离子源稳定性。结果表明该种型号的3cm卡夫曼离子源具有很好的稳定性,满足光学镜面加工要求。