| 光学镜面离子束抛光中的离子源稳定性研究 |
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| 引用本文： | 段金鑫,解旭辉,周林.光学镜面离子束抛光中的离子源稳定性研究[J].航空精密制造技术,2010,46(5). |
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| 作者姓名： | 段金鑫 解旭辉 周林 |
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| 作者单位： | 国防科学技术大学,长沙,410073 |
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| 摘 要： | 用线扫描方法研究某种型号的3cm卡夫曼离子源的稳定性,先介绍了线扫描法估计去除函数的方法以及其数学模型,用线扫描法扫描两块微晶镜面,估计出在不同时间的去除函数,分析去除函数的波动情况来考察离子源稳定性。结果表明该种型号的3cm卡夫曼离子源具有很好的稳定性,满足光学镜面加工要求。
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| 关 键 词： | 离子源稳定性 离子束加工 去除函数 线扫描法 |
Study of Stabilization of the Ion Source in Ion Beam Figuring Progress for Optics Mirrors |
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| DUAN Jin-xin,XIE Xu-hui,ZHOU Lin.Study of Stabilization of the Ion Source in Ion Beam Figuring Progress for Optics Mirrors[J].Aviation Precision Manufacturing Technology,2010,46(5). |
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| Authors: | DUAN Jin-xin XIE Xu-hui ZHOU Lin |
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