固体推进剂的新型脱模剂——室温硫化硅橡胶

在固体火箭发动机的制造过程中,由于大多数推进剂具有所需燃烧面的内孔装药,这种装药都得使用模芯,因此,就存在着脱模这道工序。然而固体推进剂药浆在加热固化过程中与金属模芯产生了相当牢固的结合力,而导致不同程度的粘模,造成了脱模困难,严重的还会拉坏发动机内孔药型并产生径向裂纹、脱粘等现象,甚至因模芯无法拔出而导致整个发动机报废。为了解决粘模问题,就必须使用脱模剂。脱模剂涂敷于芯模表面后与推进剂药浆起到隔离和润滑作用,从而保证发动机顺利拔模,缩短脱模时间,并保证产品质量和技术安全。     

超微粒SnO2薄膜器件气敏特性的研究

本文介绍了作者采用半导体IC平面工艺技术,成功地研制出了超微粒SnO_2薄膜器件,并对该器件的氧气敏感特性作了研究,得到了该器件的主要特性参数。对其灵敏度特性曲线的研究表明:该器件不仅对低浓度氧气敏感,而且对高浓度氧气也敏感;并得到了超微粒SnO_2薄膜器件灵敏度特性所遵循的客观规律,即logR_s=0.72logC+0.85。     

基于ANCF的薄膜太阳帆自旋展开动力学模拟

执行深空探测任务的薄膜太阳帆在入轨展开过程中,其薄膜结构在宏观力学响应上表现出显著的拉压不对称特性.系统的动力学行为呈现出强烈的非线性特征,使其动力学建模与仿真计算面对巨大挑战.基于绝对节点坐标方法(Absolute Nodal Coordinate Formulation,ANCF),整合张力场和不同模量弹性理论,推...     

退火工艺对磁控溅射LiCoO2薄膜形貌与力学性能的影响

采用磁控溅射方法在单晶Si(100)上制备LiCoO_2薄膜并选择不同退火温度、保温时间和退火气氛对薄膜进行热处理,研究不同退火条件对LiCoO_2薄膜形貌、组成、晶体结构和力学性能的影响。结果表明:退火过程将LiCoO_2薄膜表面粗糙度从11.63 nm降低至6.13 nm,且退火气氛对LiCoO_2薄膜表面形貌影响最大;LiCoO_2薄膜退火产生Li_2O、CoO、Co_3O_4等副产物,薄膜组成被破坏;任一退火条件均能使LiCoO_2薄膜结晶,平均晶粒尺寸约为30 nm,退火温度对LiCoO_2薄膜晶粒尺寸和残余应力影响最大;LiCoO_2薄膜退火后,其硬度H、杨氏模量Er增大一个数量级,最优退火工艺下(600℃,60 min,纯O_2气氛),H~3/E_r~2比例为0.03 GPa,抵抗塑性变形能力好。     

基于碳纳米管薄膜的复合材料层间增韧

通过浮动催化化学气相沉积法制备连续碳纳米管薄膜，并将其原位沉积到单向碳纤维织物表面，手工铺层后借助真空辅助树脂传递模塑成型（VARTM）工艺制备碳纳米管-碳纤维/环氧树脂复合材料层压板，研究不同面密度的碳纳米管薄膜对层压板Ⅱ型层间断裂韧性的影响。结果表明，随着碳纳米管薄膜面密度的增加，层压板Ⅱ型层间断裂韧性先逐渐提高，当碳纳米管薄膜面密度为9.64 g/m²时，层压板Ⅱ型层间断裂韧性最佳，与原始层压板相比提高了94%。碳纳米管通过桥接树脂裂纹、从树脂中拔出等方式提高层间断裂韧性。当碳纳米管面密度超过临界值时，会引起树脂浸润困难，导致增韧效果降低。     

基于JC-Z05石英的薄膜电路基板工艺适用性研究

为满足低损耗的设计需求,太赫兹微波组件中一般使用熔融石英基板。不同于光学系统对熔融石英材料的要求,应用于太赫兹等高频段微波组件的熔融石英基板材料不仅需要具备稳定的介电性能,还需要更优异的表面镀膜特性与电路图形、外形等加工精度要求。本文基于薄膜电路制造工艺要求,针对JC-Z05石英基板膜层附着力、表面刻蚀精度、切割质量、粘接强度等关键工艺特性研究,并通过改进工艺参数,进一步优化JC-Z05石英基板工艺适用性,提升国产石英基板材料作为在太赫兹频段薄膜电路制备的可靠性。研究结果表明,国产化熔融石英基板,结合优化后的薄膜电路制作工艺,制作出的电路具有膜层附着力强、外形切割公差小以及粘接可靠性高的特点,可满足复杂宇航环境中的高可靠应用。这一工作可为后续熔融石英电路基板在太赫兹领域的应用提供参考。     

过滤式阴极电弧沉积类金刚石薄膜的特性分析

利用自行研制的过滤式阴极电弧沉积装置,在硅片和高速钢基体材料上获得了类金刚石薄膜,分别采用扫描电镜、原子力显微镜、喇曼光谱以及磨损实验等手段对薄膜进行了分析研究。结果表明,所获得的类金刚石薄膜为非晶态,sp3含量最高达70%;基体材料对成膜质量影响较大,在硅片上薄膜的摩擦系数可达0.08;同时偏压的变化会引起喇曼谱线中D峰和G峰位置向低频移动,半高宽σG增大、σD减小。     

离散气膜孔下游边界层的实验研究

“Ｘ”型热线测量了离散气膜孔下游边界层内的湍流量,将热线探头绕轴转三个角方位以感受三维湍流场信息。结果表明,边界层内湍动能分布呈反“Ｓ”形,吹风比和孔排数对参数分布有重要影响,这种影响在很长距离上不消失,所以,常用的ｋ－ε模型不经修正不能正确预计这类边界层的发展。     

多层分子污染膜光学效应建模分析与试验测量

为尽量精确地模拟多层分子污染薄膜对敏感光学元件透射率的影响,采用洛伦兹?洛伦茨公式以及波在分层媒质中的传播建立光学污染效应模型,且在建模过程中考虑过渡层。对比起见,按照ASTM E 595标准进行出气试验,以信号电缆屏蔽线PVC材料外部绝缘层和33+黑色绝缘胶带为污染源,先后沉积在石英和K9光学玻璃表面,用分光光度计和质谱计测量污染薄膜的透射率与污染成分。模型的计算值与试验测量值比较显示,二者符合性较好,验证了模型的有效性。