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采用形状函数法描述变形镜校正时的曲面,从适配误差、Strehl比、加工工艺性三个方面比较了4种不同单元排列方式的微变形镜。结果表明方形排列的微变形镜设计简单,需驱动电压较低,但波前校正性能较差;圆形微变形镜性能最优,但设计复杂,需驱动电压最高。 相似文献
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阐述了表面工艺制造MEMS时造成粘附现象的主要方面,并对其进行了完整的理论分析,得出粘附力的大小与器件所处环境的湿度、温度和结构的材料、表面情况以及相对运动等因素有关,并简介了各种技术方法在结构防粘附中的应用。 相似文献
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从光学性能仿真和结构版图设计两方面对基于微机电系统技术的分立式微变形镜进行了研究。以符合柯尔莫哥洛夫湍流统计理论的大气随机波前作为被校正对象,对方形排列、砖形排列和蜂窝形排列的三种分立式微变形镜进行了面形函数构建与波前校正仿真;从单元数量、控制电极、释放孔、弹性支撑梁和寻址线等方面给出了分立式微变形镜的结构、版图设计准则;最终采用两层多晶硅表面牺牲层工艺完成了一种方形排列37单元分立式微变形镜的制备,并对其镜面光学质量和电压-位移曲线进行了测试。 相似文献
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为了研究MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)冷气推力器的热性能,介绍了一种MEMS冷气推力器的设计和制作,该推力器体积小(40mm×20mm×1mm),重量轻(1g),功耗低。对推力器加热丝不同电压和环境下进行了热仿真,对组装到电路板上的推力器模块进行了热测试。结果表明:常温常压下,8V的驱动电压,经过230s后,推力器加热丝的温度可达到80℃以上,与仿真结果趋势相同,可预见真空中,8V电压下可满足推进剂对加热腔温度的需求。 相似文献
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对二氧化硅反应离子刻蚀中反应室压力,刻蚀气体流量和射频功率等因素对刻蚀速率和刻蚀均匀性的影响进行了研究。结果表明,通过对反应室压力、刻蚀气体流量和射频功率的调节,可以降低微负载效应的影响,得到良好的刻蚀均匀性。 相似文献
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研究了基片摆动和基片自转的磁控溅射系统中基片摆动角振幅和基片自转角速度对磁控溅射膜厚均匀性的影响。在理论分析的基础上,进行了铜膜溅射实验,实验结果和理论分析符合,在摆动角振幅为π/3弧度,自转角速度为π弧度/秒的条件下,于4英寸硅基片上得到了±5.6%的膜厚均匀性。 相似文献
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