抛光力对光学玻璃表面抛光质量的影响

分析与测量了抛光模与工件盘之间的抛光力，并对如何控制与测量进行了研究．研究结果表明，随着抛光模与工件之间接触压力的增大，面型精度及表面粗糙度将变差，并且工件盘上各点切向力的变化将会引起抛光去除量不相同，因而也会导致面型精度的下降．     

超精密光学抛光研究的进展及其发展趋势

综述了对精密光学抛光影响精度和质量的因素，对重要因素目前的研究进展进行了分析；介绍了新型超精密光学抛光技术及其达到的水平；还提出了精密先学抛光的发展趋势．     

抛光沥青的剪切应变规律

研究了沥青在不同组分、温度及剪切力时呈现的3种剪切应变规律：硬脆的玻璃态、柔韧的粘弹态和易于流动的粘流态．根据沥青的剪切应变的特性，一种新型的双层结的沥青抛光模被用于超精密光学抛光。     

工艺参数对砂布轮柔性抛光力影响规律的分析

为了掌握砂布轮抛光工艺参数对抛光力的影响规律，提高抛光质量，设计了四因素三水平正交试验，利用试验结果建立了抛光力预测模型，验证了模型的显著性；分析了工艺参数对抛光力耦合影响规律，结果表明：抛光力随砂布轮初始半径和粒度的减小而增大，随转速和压缩量的增大而增大；对叶片进气边的抛光实验效果表明：通过控制压缩量可以获得稳定的抛光力，进而获得理想的抛光效果。     

合成抛光革的粘弹性特性及对抛光质量的影响

粘弹性特性是决定合成抛光车抛光性能的重要因素。实验研究了合成抛光革粘弹性特性中瞬间弹性变形ｕ、延迟弹性变形ｖ和塑性变形ｗ的大小，分析了这３种变形对抛光精度和抛光质量的影响。     

KDP晶体潮解抛光行程的分析

在对KDP晶体潮解抛光原理进行阐述的基础上，对KDP晶体潮解抛光过程进行了运动学分析，得到了KDP晶体表面上一点相对于抛光垫的抛光行程的表达式。根据抛光行程表达式和计算条件，分别计算了载样盘转数、载样盘圆心与抛光垫圆心之间的水平距离、载样盘圆心与其摆动圆心之间的水平距离、摆动周期取不同值时KDP晶体表面上一点相对于抛光垫的抛光行程，并绘制了抛光行程曲线，通过对抛光行程曲线的分析，得到了这些参数对抛光行程的影响规律。     

异形长径比孔腔的光整加工

比较了粘弹性磨料流抛光工艺与柔性磨体振动抛光工艺在抛光大长径比孔腔时在粗糙度、效率方面的差异，通过理论分析和实验证明，得出柔性磨体振动抛光工艺在抛光效率和抛光精度上优于粘弹性磨料流抛光工艺     

激光陀螺超高反射镜基片抛光工艺

采用新型双层结构沥青抛光模和两种抛光粉（CeO2和Fe2O3）分步抛光工艺，在合理选择抛光工艺参数的条件下，实现了微晶玻璃激光陀螺反射镜基片的超精密抛光，表面粗糙度达到Ra＜0．5nm、面型精度N＝0．5、△N=0，1．     

钢材料碱性化学除锡耐蚀性研究

为掌握氮化零件在发蓝溶液中进行化学除锡时零件尺寸的变化规律，消除除锡过程中零件的尺寸超差，对不同材料零件的除锡温度及时间进行了研究。试验得出，降低零件除锡温度，减少零件除锡时间，可避免零件除锡时产生过度氧化，保证零件的尺寸要求。     

砂布轮柔性抛光力的建模与参数优化

砂布轮柔性较大可以实现航空发动机叶片微面切触自适应抛光,提高叶片表面完整性和力学性能。抛光力是影响抛光表面完整性的关键参数,通过单因素试验分析确定了砂布轮抛光力的影响参数及其影响规律,通过正交试验和极差法确定了影响抛光力的主要参数是砂布轮的压缩量和转速;利用二元二次回归正交试验得出了抛光力的预测模型,利用该模型分析了抛光力预测误差变化趋势,明确了不同转速下抛光力主要影响参数的稳定域;整体叶盘的抛光试验表明：通过合理控制抛光力,可以实现表面粗糙度小于0.4 μm的抛光效果,且效率比人工提高20%。     

聚氨酯柔性磨具抛光技术的实验研究

在研究聚氨酯柔性磨具抛光机理的基础上．对钛合金的异形面的抛光进行了实验研究，弄清了主要工艺参数对抛光效果的影响。     

光学材料的浅低温抛光方法

介绍了光学材料的浅低温抛光方法,首先把抛光液冷冻成低温抛光模层,然后进行抛光实验。实验结果表明,这是一种很好的抛光方法．     

航空发动机叶片柔性抛光技术

 基于发动机叶片结构特点及其抛光工艺要求,为实现叶片型面及阻尼台自动化抛光,满足其型面及进排气边尺寸、粗糙度等质量要求,消除叶片型面波纹对抛光工艺的影响,对砂带柔性抛光工艺装备技术进行研究,提出基于抛光力控制的砂带柔性磨头抛光工艺方法,并对其抛光工艺过程、抛光力控制进行研究,通过对叶片自动化抛光编程及抛光轨迹路径规划技术研究,最终实现发动机叶片高效柔性抛光工艺。抛光试验结果表明,柔性自动化抛光后叶片型面尺寸精度可达±0.06 mm,粗糙度低于R_a0.4,与传统手工抛光方法相比,大大提高其抛光效率及表面质量稳定性,降低劳动强度,且减少粉尘污染。     

激光陀螺反射镜基片精密抛光技术的研究

本文在实验研究的基础上论述了超光滑反射镜基片的精密抛光技术。通过抛光模、抛光液、抛光压力、抛光速度等对抛光质量影响的研究,提出了获得0.1nm(?)级表面粗糙度,无损伤超光滑光学表面的工艺参数组合。     

功能陶瓷超精密加工技术

介绍了国内外功能陶瓷超精密加工技术的研究现状及加工方法 ,阐述了超精密抛光技术的原理及影响加工质量的因素 ,指出了功能陶瓷超精密抛光技术的发展趋势。     

长针电连接器去金搪锡工艺技术

针对长针电连接器手工搪锡效率低、质量差的问题,分析了当前几种搪锡方法的优缺点,提出研制搪锡保护装置使用锡锅搪锡的工艺方法,详述了保护装置研制的关键技术及具体实施方法。结果表明,本工艺方法操作过程简单、难度低,工艺稳定性好,极少出现返工返修情况,搪锡质量和效率均大幅提高,保护装置可以重复使用,降低了搪锡成本。     

增材制造复杂金属构件表面抛光技术

增材制造可以满足航空航天领域对零件的高复杂性、高性能、轻量化以及多功能化的要求，但其制造复杂金属零件时在综合性能、表面质量和成形精度上仍然存在不足，必须经过表面抛光处理才能达到航空航天零件高使役性要求。通过综合国内外文献资料，详细介绍了化学抛光、电解抛光、磨粒流抛光和激光抛光这4种可达性较强的表面抛光技术的原理方法以及应用现状，接着分析了增材制造技术和表面抛光技术的发展趋势，最后进行了总结和展望。提出增材制造与表面抛光工艺相结合的工艺优化思想，并指出研制绿色智能的一体化技术装备是当前面临的重大挑战。     

散粒磨粒抛光运动轨迹的仿真与合理参数的选择

通过计算机模拟出磨粒的运动轨迹,从而得出影响抛光质量的因素,并提出了合理的抛光运动参数。     

环形气囊抛光非均匀性的研究

针对环形气囊抛光光学元件表面时产生的抛光非均匀性现象,简要介绍了环形气囊抛光技术的运动方式和实验平台的主要组成部分。介绍了环形气囊的抛光机理,基于Preston方程,分析了抛光非均匀现象产生的原因和解决途径,通过调整环形气囊抛光头与工件之间的相对运动方式和调整环形气囊抛光头与工件之间的相对位置等两种方法,消除了工件中心抛光效果差的现象,实现了工件表面的均匀性抛光。     

基于电磁铁励磁的圆孔磁流变抛光头研究

根据圆孔光学元件的抛光特点，采用有限元仿真分析磁极头厚度、气隙宽度及铁芯宽度等因素对磁场强度的影响规律，设计优化了一种新型高效抛光头，获得磁场强度最大值为H=144520A/m且覆盖宽度l=1.37mm，并对K9光学玻璃进行了抛光试验。试验结果表明：采用电磁铁励磁的磁流变抛光头可以实现光学元件表面的高精度面型加工。