Y2O3涂层的MOCVD法制备工艺

采用MOCVD法,通过金属有机先驱体Y(TMHD)3与O2反应在石英或CVD-SiC基片上制备Y2O3涂层,探索了制备工艺对沉积结果的影响.结果表明,先驱体气相浓度对Y2O3涂层生长方式和涂层与基片的结合强度有很大影响;沉积温度在600℃～700℃范围内,随着温度的升高涂层致密度提高,空洞缺陷减少.     

2MN推力测量自动校准系统设计

2MN推力测量自动校准系统,通过液压源产生稳定标准力,由伺服控制器对标准力传感器输出力值进行精确测量,使标准力传感器输出值与标准值相等,实现力值的高精度控制。校准过程中前后端计算机通过串行连接,根据推力校准过程特点设定握手协议,对交互信号进行判断后由校准程序自动确定校验过程状态并进行相关处理,实现了校准过程的自动化,确保了校准数据完整性、准确性。