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航空航天用碳碳复合材料抗氧化涂层的研究现状 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了航空航天用碳碳复合材料(C/C)抗氧化涂层研究的发展和现状,指出提高SiC涂层系统抗氧化能力的根本途径在于选择合适的玻璃密封剂来覆盖和封闭剂SiC上的微裂纹。最新研究结果表明,使用射频磁控溅射工艺能够在C/C上得到均匀的铱涂覆盖层,且在高温环境中仍能保持稳定。此外发现,铱和C/C复合材料间不发生界面反应。 相似文献
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介绍了航空航天用碳碳复合材料(C/C)抗氧化涂层研究的发展和现状,指出提高SiC涂层系统抗氧化能力的根本途径在于选择合适的玻璃密封剂来覆盖和封闭SiC上的微裂纹。最新研究结果表明,使用射频磁控溅射工艺能够在C/C上得到均匀的铱涂覆层,且在高温环境中仍能保持稳定。此外发现,铱和C/C复合材料间不发生界面反应。 相似文献
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研究了Si-MoSi2系统作为碳-碳复合材料抗氧涂层的可能性。结果表明,当涂层中MoSi2含量为20(wt)%时,涂层具有优良的抗氧化和抗热震性能,在1500℃下,该涂层表现出长寿命抗氧化性能,242h的氧化失重为0.57%,氧化失重速率稳定在2.43×10^-5g/ms^2.s。 相似文献
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Si3N4—SiC纤维先驱体——低分子量聚硅氮烷的合成与分析 总被引:1,自引:0,他引:1
以MeSiCl2(式中Me代表CH3)或共混合物与NH3反应制得低分子量聚硅氮烷,该产物是制备Si3N4-SiC纤维先驱体的基本原料。研究了不同配比的Me2SiCl2/MeSiHCl2混合物氨解反应所需的时间,氨解产物的物理性能、分子量及其分布,着重要分析了氨解产物的结构。 相似文献
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C/C复合材料防氧化复合涂层的制备及其性能 总被引:13,自引:1,他引:12
提出并制备一种C/C复合材料防氧化复合涂层,其基本结构为TiC粘结层/SiC氧阻挡层/ZrO2-MoSi2外涂层,研究了其制备工艺、组织结构、对各单一涂层的防氧化作用及效果进行了分析,并对其抗氧化性能进行了测试。通过比较四种成分组成的抗氧化陶瓷外层的抗氧化性能,结果表明:随着外涂层中MoSi2含量的增多,复合涂层的抗氧化性能增强,其中带有TiC/SiC/MoSi2涂层的C/C复合材料试样在1300 相似文献
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以Si和Al2O3为原料,采用原位生成法在带有SiC内涂层的炭/炭(C/C)复合材料表面制备出Si-Al2O3-mullite(莫来石)抗氧化涂层。采用X射线衍射、扫描电镜和氧化实验研究了Al2O3含量等工艺因素对Si-Al2O3-mullite涂层的物相组成、结构形貌、抗氧化性能影响。结果表明:Al2O3质量含量为30%~40%时,涂层主要由Si,mullite和Al2O3三相组成,涂层致密无裂纹,抗氧化性能最佳。在1 500 ℃等温氧化测试显示,SiC/Si-Al2O3-mullite复合涂层比单一的SiC涂层抗氧化性能有明显提高,1 500 ℃等温氧化75 h试样失重为4.6%。涂层试样失重的主要原因是涂层中产生了不可愈合的孔隙缺陷。 相似文献
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为提高C/C复合材料的抗氧化性能,采用包埋法和低压化学气相法制备了SiC/SiO2涂层.借助XRD、SEM和EDS等测试手段分析了复合涂层的微观结构,并研究了其在l273、1773 K静态空气中的抗氧化性能.结果表明,包埋法制备的SiC涂层具有一定的浓度梯度.低压化学气相法制备的非晶Si02外涂层则有效地封堵了SiC内涂层的的裂纹和孔洞,并解决了SiC涂层在中温区(1073~1473 K)无法形成完整SiO2膜的问题.在l 273、1 773 K静态空气中经10h氧化后,涂层试样的质量损失率分别仅有4.97和0.36 mg/cm2,表现出良好的抗氧化性能. 相似文献
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Carbon-carboncomposites(C/C)exhibitexcellentstructuralpropertiesabove165OC,andareconsideredasthemostpromisingcandidatematerialsforthehighthrust-weightratioturbineengines.Asakeytechnologyforthehigh-temperaturestructuralapplicationsofC/C,oxidationprotectionispaidmoreandmoreattentionrecently.TheoxidationprotectionllfeofacoatedC/Cisdeterminedbyenvironmenta1temperature,becauseitnotonlydecidesthether-mochemicalconditionsofinterfacesinacoating,butalsocontrolsthedynamicprocessofoxy-gendiffusion.The… 相似文献
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YU Wei* LU Xue-qin LU Wan-bing HAN Li FU Guang-sheng College of Physics Science Technology Hebei University Baoding China 《中国航空学报》2006,19(Z1)
Nanocrystalline (nc) 3C-SiC films on the Si substrate were prepared by the helicon wave plasma enhanced chemical vapor deposi-tion (HW-PECVD) technique. With the SiH4-CH4 gas flow ratio changing, the films exhibit different photoluminescence (PL) character-istics. Under the stoichiometric condition, the PL peak redshift from 470 nm to 515 nm is detected with the increase of excitation wave-length, which can be attributed to the quantum confinement effect radiation of 3C-SiC nanocrystals of different sizes. However, the ap-pearance of an additional PL band at 436 nm in Si-rich film might be sourced back to the excess of Si defect centers in it. This is also the case for C-rich film for its PL band lying at 570 nm. The results above quoted indicate an important influence of gas flow ratio on the PL properties of the SiC films providing an effective guidance for analyzing the luminescence mechanism and exploring the high-efficiency light emission of the SiC films. 相似文献
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张中伟%王俊山%许正辉%李承新 《宇航材料工艺》2007,37(1):58-60
为解决MoSi2和SiC线膨胀系数差异,在带有SiC外涂层的C/C复合材料表面采用等离子喷涂、电弧沉积和固渗等工艺制备MoSi2涂层。涂层表面形貌分析发现,等离子喷涂MoSi2涂层多孔不致密,电弧沉积MoSi2涂层易开裂剥落;而固渗MoSi2涂层致密均匀,且界面结合力好。氧化试验也表明,固渗MoSi2涂层性能较好。 相似文献