镀铝KAPTON,TEFLON薄膜充放电特性面积效应研究

介绍星用镀铝ＫＡＰＴＯＮ、ＴＥＦＬＯＮ薄膜充放电特性地面模拟试验研究的试验装置、试验方法和试验结果分析；给出了充电电位分布、最大放电电流、放电电荷、放电脉宽与样品面积的关系；简单介绍放电频谱特性、小放电脉冲、掩模上放电脉冲以及放电对样品表面损伤的形貌分析。研究结果主要为卫星充放电效应的防护设计和试验验证提供实验依据     

离子束加工和离子镀膜简介

针对超精细加工的技术要求,叙述了离子加工应用技术的发展概况、各型号离子束刻蚀机的性能及使用效果,阐述了离子镀膜的基本原理与特点。这种镀膜对零、部件表面的保护及性能改善有重要作用。     

中国空间大功率微波部件微放电抑制表面处理技术最新进展

材料表面的二次电子发射会触发和维持空间高功率射频器件的共振雪崩放电现象,这种现象又被称为微放电效应。微放电效应是限制空间大功率微波部件应用的关键问题之一。从微放电作用的机理出发,首先介绍了两种微放电类型（单表面与双表面）的基本物理机理;然后总结了当前主流的微放电抑制方法并给出各自应用于空间大功率微波部件时的限制。针对空间大功率微波部件微放电抑制的特殊问题,综述了国内近5年来在表面处理法抑制微放电领域的研究成果并预测了微放电抑制技术的发展趋势。     

三维LDV光学系统技术方案的研究

通过自行设计制造色分离器、一维发射系统、提升反射镜组针丹麦ＤＡＮＴＥＣ的二维ＬＤＶ改造为三维ＬＤＶ。提出了镀膜分光和紫光滤光片提纯相结合的最佳分色方案并研制了镀膜分色片、紫光波光片这两种关键部件。通过联调作校准试验,证明本三维ＬＤＶ系统完全达到了设计技术指标。     

等离子体处理对非晶态合金镀层表面改性研究

通过微波等离子体处理方法对Ni-W、Ni-W-B非晶态合金镀层表面进行改性的研究,测量了表面改性对非晶态镀层耐蚀性、表面成分及结构的影响.结果表明,经过微波等离子体处理过的Ni-W、Ni-W-B非晶态合金镀层,提高了在H₂SO₄、HNO₃溶液中的耐蚀性以及在700℃环境下的抗氧化性能;微波等离子体处理过的非晶态合金镀层表面含W量和含O量相对提高了;镀层结构仍然是非晶态.     

镀膜光纤声相位调制器的研究

本文主要讨论氧化锌镀膜光纤光相位调制器。首先介绍了氧化锌镀膜光纤的几何结构，然后分析了此几何结构压电声光振荡的基本原理并推出了氧化锌镀膜光纤声光相位调制器Ｔ型网络的等效电路模型，最后给出了氧化锌镀膜光纤声光相位调制器的实验测试装置及基本工程原理。     

多弧磁控溅射离子镀膜设备

本项成果是基于真空条件下弧光放电时产生的阴极弧斑将材料直接从固态气化并电离的原理。该项设备已逐渐向建材、装饰、工具等行业推广应用 ,并已经打入东南亚市场。该设备可生产大型钛金装饰镀制品、高弧离子镀金产品及工具镀氮化钛制品。设备功能多 ,获中国专利多弧磁控溅射离子镀膜设备$北京环境工程研究所     

半球谐振子镀膜残余应力对品质因数影响特性分析

针对半球谐振子表面金属薄膜残余应力分布情况，对半球谐振子Q值的影响特性进行仿真。根据仿真结果，采用多自由度磁控溅射及基底均匀加热的方法进行薄膜沉积工艺试验。控制多自由度旋转机构自传、公转、摆动参数分别为7(r/min)、12(r/min)、15(°)/s，基体均匀加热至120℃，溅射时间26min后得到100nm左右的膜层厚度。在真空状态下对半球谐振子镀膜后品质因数进行检测，结果表明可有效控制镀膜后Q值衰减不大于30%。     

冰花烤漆工艺研究

采用低浓度硫酸亚锡,采用合适的活性剂和稳定剂,这种酸性镀锡溶液,能获得牢固、光亮的镀层。针对其特性建立了工艺流程,论证了电流密度、电镀时间与冰花质量之间的关系,叙述了常见缺陷的排除方法,是一种冰花烤漆新工艺。     

美国最新材料工艺趋势

本文介绍了美国在热处理、镀膜、连接、成型、粉末冶金、铸造和机械加工等技术领域的最新发展趋势。