热铁盘法高速抛光CVD金刚石

利用高速热铁盘抛光设备对化学气相沉积(CVD,Chemical Vapor Deposition)金刚石进行抛光,分别进行温度、转速、压力以及抛光时间的实验.采用光学天平对抛光前后金刚石称重对比,采用工具显微镜和原子力显微镜对抛光后表面进行研究.结果表明:较高的抛光速度对提高表面质量以及抛光效率均比较有利.在抛光温度850 ℃,速度164 mm/s,压力24.892 N的条件下,抛光120 min后,金刚石表面的粗糙度由原来的R_a=9.67 μm下降到R_a=0.016 μm.原子力显微镜显示,抛光表面存在少数高度在60~70 nm之间的突峰,其高度是普通峰高的2~3倍,且峰的形状呈现出一定的方向性.这种表面微观规律与抛光时采用的直压式运动方式有关.      

反铁电陶瓷PLZST纳米粉的制备研究

利用溶胶-水热法制备了PLZST纳米粉,并研究了反应温度、铅过量等因素对产物的影响.溶胶处理确实可以降低制备温度.利用XRD 分析了粉体的结晶性, XRF分析了粉体的化学组成,SEM观察了粉体的形貌以及SAXS测定了粉体的粒度分布.研究发现,经一般超声分散的粉体的颗粒呈球形,而不经分散的粉体颗粒成矩形,表现出自组装的倾向性.