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研究了一种可控制边缘效应的球形磨头抛光技术,针对其特有的运动形式,采用理论分析和实验验证相结合的方法建立了其去除函数模型,给出了在不同的自转、公转条件下的去除函数表现形式,发现自、公转速度比大于1/10时,公转速度对去除函数的影响很小,且去除函数形状近似高斯分布,易于修形. 相似文献
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针对用CCOS小工具研抛技术抛光材质较硬以及陡度较高的SiC非球面镜时,面形误差收敛太慢,研究了一种新型的球形磨头抛光技术,其去除函数稳定性较好,形状趋于高斯分布且束径也较小,对修正局部面形误差具有较好的效果.为了使该技术能应用于抛光,对球头抛光工具进行了刀具补偿. 相似文献
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