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使用微波等离子体技术(microwave plasma chemical vapor deposition,MPCVD)对膜厚100μm的(100)和(111)晶面金刚石膜进行刻蚀处理,研究其抗氧等离子体的行为。结果表明:(100)晶面刻蚀首先发生在晶棱晶界处,而(111)晶面金刚石的刻蚀首先发生在晶面处;30 min刻蚀后,(100)面金刚石有明显晶面显现,(111)面金刚石膜晶面不明显;60 min刻蚀后,(100)和(111)晶面金刚石膜的择优取向消失;(100)晶面金刚石特征峰的半高宽值(full width at the half maximum,FWHM)由刻蚀前的8.51 cm~(–1)上升至刻蚀后的12.48 cm~(–1),(111)晶面金刚石FWHM值由8.74 cm~(–1)上升至148.49 cm~(–1);(100)晶面金刚石膜刻蚀速率在40 min时为0.35μm/min,60 min时上升至1.34μm/min;刻蚀前期,(100)晶面金刚石膜具有更好的抗氧等离子体刻蚀能力,刻蚀后期其抗刻蚀能力与(111)晶面金刚石膜相似。 相似文献
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提出了一种基于模型和数据的航空装备安全风险监控和预警技术方法,通过开展安全风险识别、安全风险防控措施制定、监控和预警机制建立等工作,发现航空装备中存在的可能导致飞行事故、事故征候等不安全事件的部附件及其故障模式,并有针对性地从外场使用、维护等方面提出防控措施,在外场建立预警机制,出现对应的部附件故障模式后立即发出告警,查明原因并采取防控措施,有效防范航空装备故障重复发生导致事故。 相似文献
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