微叠层材料及其制备工艺研究进展

着重论述了各种微叠层材料及其制备方法，认为电子束物理气相沉积是制备微叠层材料的有效方法：同时对微叠层材料性能方面的研究也作了相应的论述，并展望了我国今后在这方面的研究方向。     

纳米化对电子束物理气相沉积制备Ni-20Cr-0．6Al合金氧化产物的影响

利用电子束物理气相沉积(EB-PVD)方法制备了厚度为0.5mm的N i-20Cr-0.6A l(wt%)合金薄板。合金的晶粒尺寸小于100nm。研究了N i-20Cr-0.6A l合金在1000℃空气中氧化100h后的氧化产物。结果表明,100h后在合金表面只生成了连续致密的-αA l2O3氧化膜。Cr含量为20%时,纳米化使生成连续A l2O3膜所需的最小铝含量大幅度下降。