ε-CL-20转晶抑制技术研究进展

总结了五种ε-CL-20晶型转变抑制技术,分别为包覆技术、晶型控制剂抑制技术、共晶技术、超声辅助结晶控制技术、溶剂化物形成技术,综述了各种技术的研究现状,分析比较了各种技术的优缺点,其中共晶技术对于晶型转化的抑制率较高。溶剂化物形成技术有一定的局限性,虽然包覆技术、晶型控制剂抑制技术、超声辅助结晶控制技术抑制效率有待提高,但方法简单、易于工业化实现,也适合与其他技术联用。因此,综合考虑认为,未来CL-20转晶抑制研究的重点方向是共晶技术、包覆技术和晶型控制剂抑制技术。