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运用化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)技术制备了W体积分数分别10%,13%和18%的Ta/W两层层状复合材料,采用金相显微镜(OM)、扫描电镜(SEM)和室温拉伸实验对复合材料的性能进行分析。结果表明:运用CVD技术可以制备W体积分数不同,且密度优于理论密度99.4%的层状复合材料;复合材料中Ta,W层的晶粒均为柱状晶粒,离界面越近,晶粒越细;沉积态复合材料的力学性能优于纯CVD Ta和CVD W;1600℃×2 h的热处理后,复合材料的界面扩散层宽度显著增大,力学性能高于沉积态的力学性能,最高抗拉强度可达660 MPa。 相似文献
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CVD铱涂层／铼基复合喷管研究进展 总被引：15，自引：2，他引：13
介绍了高温抗氧化铱涂层／铼基复合喷管的化学气相沉积制备工艺,并就铱,铼的有关性能,ＣＶＤ铱／铼复合中元素的扩散,铱／铼合金的氧化行为及寿命预测等理论研究作了评述。 相似文献
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