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1.
主要开展了193 nm紫外激光对单晶硅的损伤实验,观察分析了材料表面的损伤形貌,建立了193 nm紫外激光损伤单晶硅的理论模型,计算分析了材料的温度场及应力场分布,讨论了损伤形貌及损伤机理。研究结果表明:193 nm紫外激光对单晶硅的损伤机理主要为热力耦合效应,硅材料表面产生严重的熔融烧蚀和裂纹状的应力损伤,计算得到193 nm紫外激光对单晶硅的熔融损伤阈值为0.71 J/cm2、热应力损伤阈值为0.42 J/cm2。  相似文献   
2.
介绍了把Ф300 mm口径平面等厚干涉仪改造为移相式数字平面干涉仪的基本情况。改造后的仪器采用液面基准的系统误差校准方法,在Ф300 mm口径时的最大允许误差为76 nm(PV值),测量重复性为4 nm,满足相关使用要求。  相似文献   
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