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11.
12.
触摸屏上的触觉再现技术增加了人机交互的真实感和丰富性。在触觉再现中,掩蔽效应改变了触觉感知特性(绝对阈值和分辨阈值),影响了触觉渲染模型的准确性及触觉再现效果的真实性。基于机械振动、空气压膜与静电力三元融合的触觉再现装置,采用“三下一上”的实验方法,研究5种不同幅度的机械振动触觉反馈作为掩蔽刺激时,空气压膜触觉反馈感知特性的变化。与静电力触觉反馈作为目标刺激时感知特性的变化进行比较,得出如下结论:在绝对阈值方面,当机械振动驱动电压幅度由0 V增加到100 V时,空气压膜绝对阈值由34.30 V增加到46.41 V,增加了35.31%,增长幅度为静电力绝对阈值增长幅度的14.95%;在分辨阈值方面,当机械振动驱动电压幅度由0 V增加到100 V时,空气压膜分辨阈值在(15.21±0.67)V范围内浮动,变化趋势与静电力触觉反馈基本相同。 相似文献
13.
为改善横向波纹隔热屏综合冷却效果,采用三维数值模拟和基于支持向量机的代理优化模型,在给定的单位面积冷却空气流量下对发散冷却结构参数进行了优化研究。设计变量选取为气膜孔直径、气膜孔排布的展向间距和流向间距,以面积平均综合冷却效率作为目标函数,通过遗传算法搜索获得了设计变量区间内的优化设计点。在隔热屏单位表面积冷却空气流量Gf = 2.647 kg/(m2?s)的工况下,优化后的d、P和S分别为0.8、4和5 mm。研究结果表明,优化的隔热屏冷却结构应具有较小的气膜孔直径d和展向间距P,以及适中的流向间距S。相对于参考结构,优化后的发散冷却结构能够改善沿流向的气膜覆盖,缩减发散冷却起始段局部高温段,起到增强隔热屏发散冷却综合冷却效率的作用。 相似文献
14.
《燃气涡轮试验与研究》2019,(4):37-42
根据轴承腔中采用环下供油方式冷却跑道的特点,设计出两种不同结构方案的甩油盘。分别建立其气液两相流的流体域数值分析模型,采用CFX软件对跑道下表面的流场进行计算,得到滑油的质量流量和体积分数。运用ANSYS Workbench的多参数响应面优化设计方法,以滑油有效冷却流量为目标函数,得到甩油盘各个结构参数在限定范围内的极值及对应的结构参数值,并将优化后的结构参数构造的数值分析模型输入CFX软件中,对其计算结果进行检验,证明了优化设计的可靠性。通过对比两个甩油盘方案的优化结构,选出了更优的结构方案,可为工程设计提供参考。 相似文献
15.
文章通过仿真分析手段研究飞行高度50 km、飞行马赫数15的飞行条件下,不同孔型对对撞流的影响,得到不同孔型对气膜冷却效果的影响规律。采用计算流体动力学(CFD)方法,对在入口压力0.5 MPa、质量流量22.5 g/s的稳定短模态(SPM)工作模态下,气膜孔为圆柱直孔、收缩孔、连续扩张孔、分段扩张孔等工况开展对比研究,结果显示,扩张孔气膜冷却的壁面热流最大,圆柱孔的次之,收缩孔的最小。这表明,通过改变对撞流气膜孔的形状可以改变气流流动特性,进而产生不同的气膜冷却效果,在SPM工作模态下收缩孔的气膜冷却效果最好。 相似文献
16.
17.
对平板阀的液动力进行理论分析以及液动力计算公式的推导;对常规平板阀进行流场仿真计算,得出平板阀稳态液动力力矩的分布规律,根据压力场的分析,优化平板阀的结构,使得平板阀稳态液动力力矩减小,达到优化效果。 相似文献
18.
通过模拟仿真的方法研究了涡轮叶片通道内部V型间断肋的传热特性。主要探究了各结构参数(间断位置,分离肋长度,分离肋后置距离)对通道的传热性能影响。结果表明:相对于传统的扰流肋结构(直肋,60°斜肋,60°V型肋),V型间断肋在壁面平均相对努塞尔数,综合传热系数以及温度分布均匀性上更具优势。通过改变间断参数,能大幅提高V型间断肋的综合传热系数。在研究的参数范围内,当间断位置为2.5 mm,分离肋长度为10.0 mm,分离肋后置距离为9.6 mm时,通道具有最佳的传热性能。在雷诺数为30 000下,与带有直肋的通道相比,优化后的V型间断肋的平均努塞尔数提高了35.75%,综合传热系数上升了28.95%。 相似文献
19.
为了寻求凝胶推进剂雾化机理、提高其雾化效果,开展幂律流体双股圆柱射流撞击的理论和实验研究。首先推导了幂律型流体射流撞击形成液膜的理论模型,在其中引入粘性力和能量损失。进而通过设计凝胶模拟液射流撞击实验,使用高速摄像机拍摄图像的方法进行了相关的实验研究,以验证理论的正确性。在此基础上,对撞击角度、射流速度分布及液体部分物性参数对液膜形状、厚度及速度分布的影响进行了分析,得到了相关参数的影响规律。研究结果表明,射流撞击角、速度型、液体表面张力系数、流变特性等均对液膜特性有明显影响,且流体本身的物理性质对撞击形成的液膜的影响更甚。 相似文献
20.
使用微波等离子体技术(microwave plasma chemical vapor deposition,MPCVD)对膜厚100μm的(100)和(111)晶面金刚石膜进行刻蚀处理,研究其抗氧等离子体的行为。结果表明:(100)晶面刻蚀首先发生在晶棱晶界处,而(111)晶面金刚石的刻蚀首先发生在晶面处;30 min刻蚀后,(100)面金刚石有明显晶面显现,(111)面金刚石膜晶面不明显;60 min刻蚀后,(100)和(111)晶面金刚石膜的择优取向消失;(100)晶面金刚石特征峰的半高宽值(full width at the half maximum,FWHM)由刻蚀前的8.51 cm~(–1)上升至刻蚀后的12.48 cm~(–1),(111)晶面金刚石FWHM值由8.74 cm~(–1)上升至148.49 cm~(–1);(100)晶面金刚石膜刻蚀速率在40 min时为0.35μm/min,60 min时上升至1.34μm/min;刻蚀前期,(100)晶面金刚石膜具有更好的抗氧等离子体刻蚀能力,刻蚀后期其抗刻蚀能力与(111)晶面金刚石膜相似。 相似文献