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提出了一种利用线阵CCD传感器作为接收装置,以8253编程芯片实现自动测量并实时显示测量结果的底片判读仪透射屏厚度测量系统。文中主要论述了该系统的工作原理和软硬件的实现途径,并分析了系统的测量误差;文章最后列出了实测数据,证明了系统的可行性和先进性。 相似文献
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在HFCVD系统中施加栅极偏压和衬底偏压,采用双偏压成核和栅极偏压生长的方法成功制备了高质量的纳米金刚石薄膜.采用显微Raman高分辨率SEM和AFM等现代理化分析手段分析纳米金刚石膜的微结构,结果表明双偏压显著促进了金刚石的成核密度,平均晶粒尺寸在20 nm以内.试验观察和理论分析表明栅极偏压促进了热丝附近的等离子体浓度,提高了衬底附近的碳氢基团和氢原子浓度,提高了金刚石的成核密度、在保持晶粒的纳米尺寸的同时保持了较高的成膜质量和较低的生长缺陷. 相似文献
35.
DLC涂层硬质合金微钻的制备及其切削性能 总被引:1,自引:0,他引:1
在硬质合金微型刀具加工高硅铝合金等难加工材料时,通过采用改进的热丝CVD装置开展了DLC涂层硬质合金微钻制备工艺优化,得到了最优沉积工艺,并配合高速加工高硅铝合金(Si15%)材料微小孔钻削性能对比试验,分析了刀具的磨损机理.结果表明:两步预处理方法适合复杂形状硬质合金衬底的预处理方法.钻削高硅铝合金时,DLC涂层具有低摩擦系数和高耐磨损特性,同等切削条件下,涂层微钻的切削寿命比未涂层硬质合金微钻提高了10倍. 相似文献
36.
基于Cr过渡层沉积CVD金刚石涂层的试验研究 总被引:5,自引:0,他引:5
研究了在硬质合金上基于Cr过渡层沉积CVD(Chemical vapor deposition)金刚石涂层的工艺,利用自制的CVD金刚石沉积设备制备出晶形完整、晶粒大小均匀、分布连续的金刚石涂层。用SEM和Raman光谱对CVD金刚石涂层进行了分析。结果表明,沉积工艺对金刚石的形态和成分有显著影响,基体温度在800℃左右时,可以得到晶形完整,非金刚石成分较少,与基体结合紧密的CVD金刚石涂层。 相似文献
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SiO_2/Ag薄膜系统是扫描辐射计内光路反射镜的主要组成部分。采用高分辨扫描俄歇微探针(SAM)和扫描电镜分析对SiO_2/Ag 薄膜系统失效进行了较为全面的分析研究。通过扫描电镜观察发现,失效的反射镜表面SiO_2薄膜上存在大量析出物,借助于SAM分析,表明这些析出物主要是银和铜,析出物表面伴随有硫化和氧化。SAM的深度剖面结果说明,有析出物存在的区域,各薄膜层中存在原子间的扩散。文章就反射镜中Ag、Cu、和O的扩散和穿透行为进行了讨论,认为SiO_2薄膜致密度较差是导致反射镜失效的主要原因之一。 相似文献
40.
基于热力学火用平衡方程所揭示的实际用能过程和理想用能过程,通过引入"偏离值"、"偏离度"两个指标,对甲醇超临界水制氢系统进行了火用分析。首先确定了加热和反应环节为重点优化环节;然后研究了此二环节的"偏离度"分别随压力、温度的变化规律,并比较了压力和温度对"偏离度"的影响作用大小。在提高甲醇制氢系统的能质利用率方面进行了有益的探讨,其结论对制氢系统的节能工作具有一定的参考价值。 相似文献