CLVD 法制备C/C复合材料工艺探索研究

研究了采用化学液气相沉积法制备C／C复合材料的工艺过程，分析了不同预制件、温度、浸泡时间等工艺参数对致密速度、效果的影响，并总结出了一套快速高效的致密方法。     

碳氮膜的沉积工艺及结构研究

以氮气为反应气体，用真空阴极电弧沉积法制备了CNx膜，对工艺参数对膜层的沉积速率，化学成份的影响及膜结合状态进行了研究，结果表明，沉积速率随着氮气分压的提高而下降，当氨气分压达到6．7Pa时将没有膜的沉积；CNx膜主要由碳和氮组成，降低真空系统的抽速，。将反应气体导至靶面附近，提高氮气分压可以提高膜层中氮含量；氮是以化合态存在于膜层中。     

碳敷层光纤在碳纤维复合材料智能结构中的应用

在碳纤维复合材料结构的固化过程中，埋入其中的光纤将承受恶劣的环境，这将使光纤的光学性能发生变化，从而影响碳纤维智能复合材料结构中光纤传感系统的性能。文中对多种光纤进行了试验研究，在碳纤维复合材料固化过程中，发现普通敷层光纤的性能发生变化，而央敷层光纤的性能不会发生变化，并对这些现象的原因进行了初步讨论，从而为在碳纤维复合材料智能结构中光纤的选择提供了一定的依据。     

汉莎酝酿收购美国捷蓝

美大陆近期宣布，与非盈利机构可持续发展旅游国际组织合作，推出碳补偿计划。这项自愿性的计划可以让大陆航空的客户了解到选乘航线行程的碳排放量，并可通过可持续发展旅游国际组织所计算出的美国大陆航空航班所产生的碳排放量，向该组织进行补偿捐献。客户可选择捐赠根据自身相关航线形成的碳排放量计算得出的建议补偿金额，     

安娜·费希尔

早期经历：费希尔1971本科毕业后，在美国加利福尼亚大学洛杉矶分校化学研究生院用1年时间从事金属碳硼烷的X射线结晶学研究领域的工作。她与别人合作撰写了3篇有关这些研究的论文，发表在《无机化学杂志》上。     

碳/碳复合材料连接工艺的研究进展

对近年来用粘接以及用石墨、硼、硼化物、碳化物、金属、金属间化合物和玻璃等作中间层连接碳版复合材料的新方法进行了概述；介绍了碳／碳复合材料与铝、铜的粘接及钎焊连接工艺。     

激光诱导碳等离子体在强激光冲击合成金刚石微晶中的作用

通过对Ｒａｍａｎ光谱及激光诱发碳等离子体的进一步分析研究，讨论了强激光冲击合成金刚石微晶过程中碳等离子体的作用机制。碳等离子体可视为高活性、高动能碳粒子集团，其对石墨相的作用同时包括能量传输和质量传输两个过程，因此碳等离子体在促进石墨相结构畸变、结构重组乃至相变方面起到了重要的作用；从能量阈值角度分析了碳等离子体与石墨相之间的四种磁撞类型，并据此对Ｒａｍａｎ谱线随激光功率密度的变化规律提出了较为合     

碳硼复合渗研究及其应用

本文研究了２０钢和４５钢的碳硼复合渗渗层组织及耐磨性能。结果表明：复合渗可得到较强支撑作用的过渡层，从而使渗硼层耐磨性提高。饲料粉碎机锤片采用复合渗工艺处理后试用效果良好。     

工艺参数对CVD制备热解碳界面层厚度的影响

以甲烷(CH4)为碳源先驱体,以三维针刺碳纤维预制体为沉积基体,研究了化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)工艺过程中沉积时间、沉积压力以及预制体厚度对热解碳界面层沉积厚度的影响,并在此基础上优化了在碳纤维表面制备合适厚度的热解碳界面层所需的CVD工艺参数。结果表明,针对现有反应腔体,5 mm厚碳纤维预制体试样,采用1 000℃的沉积温度,CH4流速500 ml/min,沉积时间10 h,沉积压力5 kPa,可在预制体内外碳纤维表面沉积得到厚度合适的热解碳界面层;当碳纤维预制体厚度增至10 mm,则沉积时间应延长至15 h,压力维持不变,可沉积得到合适厚度的界面层。     

镀金属碳毡在电磁屏蔽材料中的应用

将三维网络结构的碳毡引入电磁屏蔽材料的应用，对其特有的电磁性能及网络结构作了分析，并进行了复合材料屏蔽效果计算和修正。研究表明：利用碳毡的孔洞结构和尺寸，辅之以金属镀层，能在较宽的频率内对电磁波有良好的屏蔽效率，且不需要很大的填充量。