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新型MCrAlX包覆型涂层是国外70年代发展的第三代高温防护涂层。以GH220合金为基材,采用磁控溅射沉积MCrAlX涂层,并通过对涂层的成分及其复合结构、梯度系统优选试验,获得了Ni-20Co-18Cr-12.5-0.6Y-Si-Hf/Al梯度涂层,该涂层的抗氧化性,抗腐蚀性、塑性与脆性得到合理统一,表现出优异的高温防护性能。 相似文献
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离子镀是应用于膜沉积工艺的一个常用术语。在该工艺中,基材表面和/或沉积膜受到高能粒子流的作用,足以导致在界面区域或膜与未经轰击沉积情况相比诸多性质的改变。离子镀正是取代溅射沉积、真空蒸发和电镀的一种涂层新工艺。为了对各种沉积技术恰当地选用,有必要了解有关离子镀的基本机理。该文评述了当采用离子镀时,低能离子轰击对表面、界面的形成以及膜的生长的影响。离子镀的许多问题目前仍不明确,因而希望通过呼吁引起对这些问题的重视,科研工作者和工艺学家们能把较多的精力投向研究和控制离子镀工艺。 相似文献
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新型MCrAIX包覆型涂层是国外70年代发展的第三代高温防护涂层。以GH220合金为基材,采用磁控溅射沉积MCrAIX涂层,并通过对涂层的成分及其复合结构、梯度系统优选试验,获得了Ni20Co-18Cr-12.SAI-0.6Y-Si-Hf/Al梯度涂层,该涂层的抗氧化性、抗腐蚀性、塑性与脆性得到合理统一,表现出优异的高温防护性能。 相似文献
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王秀兰%刘文言%刘洪源%张泰华 《宇航材料工艺》2002,32(6):52-54
采用真空磁过滤电弧离子镀方法,在GT35基体上沉积类金刚石膜。通过对清洗工艺及弧电流、工件所加负偏压、沉积温度等参数的研究,制定出了合理的工艺路线,并对这种膜层进行了X-射线光电子谱(XPS)分析,利用干涉仪、纳米硬度计对膜层的粗糙度、纳米硬度作了进一步检测。结果表明,采用此种方法制备的类金刚石膜层,SP^3含量约为40.1%;组织致密,无大的颗粒;镀膜后的粗糙度可以达到0.015μm;纳米硬度约为55GPa。并将膜层与TiN膜层组成摩擦副,进行了耐磨性试验。结果表明膜层的耐磨性较好。 相似文献
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刘淑敏 《航空精密制造技术》1992,(3)
激光化学气相沉积是70年代后期迅速发展起来的新技术。目前仍处于研究阶段,并开始走向应用阶段。激光化学气相沉积通过激光对反应气体和基材表面的相互作用,在基材表面沉积薄膜,其机理有激光热沉积和激光光化沉积两种。使用的激光波长有红外、可见光和紫外,有功率数瓦至千瓦级的连续激光,也有脉冲激光。沉积的薄膜有TiC、SiC、Ni、W、Si_3N_4、TiSi_2、 相似文献
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韩敏健 《西安航空技术高等专科学校学报》2000,18(1):18-20
以氮气为反应气体,用真空阴极电弧沉积法制备了CNx膜,对工艺参数对膜层的沉积速率,化学成份的影响及膜结合状态进行了研究,结果表明,沉积速率随着氮气分压的提高而下降,当氨气分压达到6.7Pa时将没有膜的沉积;CNx膜主要由碳和氮组成,降低真空系统的抽速,。将反应气体导至靶面附近,提高氮气分压可以提高膜层中氮含量;氮是以化合态存在于膜层中。 相似文献
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由于化学气相沉积 (CVD)形成的膜较薄 ,如果金刚石涂层刀具有少量粘接或基材表面损坏 ,应中止切削。因此 ,正在研究CVD金刚石涂层切割刀具的重复利用技术 ,即从刀具上完全取下旧薄膜 ,在去除涂层的表面涂上新薄膜 ,然后进行了切割耐久试验 ,并进行了比较。通过切削试验证 相似文献
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本文采用新型的喷射沉积快速凝固工艺制备了Al-3.8Li-0.8Mg-0.4Cu-0.13Zr合金,对其沉积态组织及合金凝固过程进行了初步分析。半凝固态试验合金滴沉积时撞击打碎的枝晶和重溶脱落的枝晶臂可作为新的晶核 长大,在涫本内形成大量等轴晶组织。与铸锭冶金相比,其组织细小、均匀,晶粒尺寸一般在5-20μm范围内,反映了材料速凝固的特征。沉积体内部基本上避免了较大的缩孔,减弱了粉末冶金材料的原 相似文献