磁流变液及其在工程中的应用

磁流变液是近年来得到广泛重视的一种新型的智能材料，它是由悬浮于载体液中的软磁性颗粒和稳定剂构成。介绍了磁流变液的特性，系统阐述丁磁流变液的研究现状及其在工程中的应用情况，详细分析了磁流变技术存在的问题、关键技术及其发展趋势。     

磁流变流体挤压油膜阻尼器转子系统动力特性

利用磁流变流体的粘度能够在极短的时间内随外加磁场发生明显的可逆变化的特性，提出了一种新型的磁流变流体挤压油膜阻尼器。在分析了各种磁流变流体、外加磁场强度和挤压油膜阻尼器的径向间隙对转子系统在非旋转状态下的频响函数特性的影响后，详细地研究了磁流变流体挤压油膜阻尼器对转子系统的振动进行控制的可行性和有效性，最后分析了磁流变流体挤压油膜阻尼器所存在的一些特殊问题。试验表明在较大的阻尼器径向间隙和较小初始粘度的磁流变流体的条件下，磁流变流体挤压油膜阻尼器的动力特性完全可以由简单的磁场来控制，并且具有显著的减振移频作用。     

磁流变流体稳定性机理分析

研究了磁流变流体体系内部相互作用机理,界面活性剂对磁流变流体稳定性的作用机理,以及对磁流变流体的润湿、分散及稳定的作用。指出弥散质粒子直径大小决定了磁流变流体稳定性机理不同于胶体体系。由于弥散质粒子直径远大于胶体体系的粒子直径,因而应用通常界面活性剂的润湿剂和分散剂作用的理论已不能解决磁流变流体的动力学稳定性问题。本文还提出了解决磁流变流体稳定性问题的新思路。     

光学元件抛光用水基磁流变液稳定性研究

在介绍磁流变抛光原理的基础上,分析了磁流变液所应具备的特性.通过配方试验配置了磁流变液,并对其稳定性进行了研究.配置出了沉降率达到8%且具有良好抗团聚稳定性的磁流变液,满足了光学元件抛光的要求.最后提出了进一步提高磁流变液稳定性应采取的几种可行性方法.     

KDP晶体的磁流变抛光工艺研究

研究了磁流变液中水含量对KDP工件表面粗糙度的影响;通过在磁流变液循环系统中控制磁流变液的参数,实现了去除函数的稳定,为修形工艺奠定了基础;在自研的KDMRF-200磁流变机床上进行修形实验,口径为Φ75mm的KDP工件面形精度由0.936λ(PV)收敛到0.321λ(PV),低频误差明显改善。     

磁流变液研究进展

 磁流变液是近年来得到重视的一种新型智能材料。在磁场作用下,它的流变学性能可以作出迅速的响应,且易于控制。磁流变液已得到一些成功的应用,并极有发展前景。将就近10年来磁流变液的研究进行较为全面的综述,涉及的内容有:磁流变液的组成、性能、微观结构和应用。     

挤压式磁流变弹性体阻尼器转子系统的振动特性试验

 磁流变(MR)弹性体是一种由铁磁颗粒和橡胶或凝胶混合而成的磁流变固体材料,其明显优点是颗粒不会随时间而沉降,也不需要密封装置。研制了一种自定心挤压式磁流变弹性体阻尼器,并测试了支承在该阻尼器上的柔性转子系统的不平衡响应特性。试验发现,随着磁场强度增加,磁流变弹性体阻尼器的阻尼和刚度明显增大;转子系统的一阶临界转速明显提高,二阶临界振动可被抑制。采用开关控制能抑制转子通过两阶临界转速过程中的振动。研究表明,挤压式磁流变弹性体阻尼器能用于转子振动主动控制,并具有结构简单、性能稳定、控振效果明显等特点。     

磁流变阻尼器缓冲控制方法研究

磁流变阻尼器是一种新型的智能驱动装置,正被广泛地应用于生产生活的各个领域.由于磁流变阻尼器的阻尼力性能呈强非线性,因此建立有效的控制方法,并对其实施控制,在磁流变阻尼器的应用中起着至关重要的作用.本文对磁流变阻尼器在不同应用场合的缓冲控制方法进行了系统的回顾,分析了各种控制算法的优缺点,并对磁流变阻尼器控制过程中的难点和该项技术的发展趋势进行了分析.     

复杂结构薄壁件小直径永磁球头磁流变抛光技术

针对一种复杂结构薄壁件的结构特点和加工精度要求,在磁流变抛光原理的基础上,设计了小直径永磁球头的加工工艺。本文详细分析了工件的磁流变抛光工艺要求,并在此基础上确立了工件的小直径永磁球头磁流变抛光加工方法。通过自行研制的磁流变抛光机床对工件进行加工验证实验,经过加工工件的表面粗糙度由645.8nm减小到18.7nm,表明了采用小直径永磁球头磁流变抛光方法对工件进行抛光,可以得到较好抛光表面质量,达到了工件的精度要求,进而验证了该方法的正确性。     

磁流变阻尼器性能及振动控制

基于Bouc-Wen磁滞模型,分析了磁流变阻尼器的性能;采用能量法和梯形积分法计算了磁流变阻尼器的等效线性阻尼系数;将磁流变阻尼器用于结构振动系统隔振,给出了结构在基础激励下的振动控制效果——传递率及稳态响应的相位图。      

KDP晶体的磁流变抛光研究

针对KDP晶体溶于水,易潮解的特点,配制了适用于KDP晶体抛光的磁流变抛光液,测试了其性能,并对KDP晶体进行了初步的抛光实验,结果表明该磁流变抛光液性能较好,实现了KDP晶体的磁流变抛光。     

机床定位精度对磁流变抛光的影响分析

根据KDMRF-1000磁流变抛光机床的结构形式,建立机床坐标系.对机床进行运动求解,得到磁流变抛光机床后置处理算法模型.在此模型的基础上,分析了机床各轴定位精度对磁流变抛光加工的影响,进行仿真分析,得到了误差的影响规律和对机床的定位精度要求.     

熔石英光学元件激光阈值提升仿真与工艺研究

为实现熔石英光学元件的高激光损伤阈值加工,研究了磁流变抛光+HF酸洗工艺提升阈值的过程。通过磁流变抛光+HF酸洗加工实验、测量表面缺陷形貌演变和有限时域差分算法(FDTD)仿真,认为该工艺改善破碎型缺陷,减弱光场调制作用,实现阈值的提升。     

飞机刹车新技术

电动刹车技术是新一代多电或全电飞机计划能否实现的关键技术之一,与传统的刹车方式相比它在刹车效能、安全性、可靠性和可维修性方面具有较大突破,目前已经进入试验阶段。流变体刹车是一种尚处于理论研究阶段的新的刹车理念,它使磁流变体和电流变体等智能材料,在调节外加电场或磁场的情况下,迅速改变粘度,甚至由液态变为固态。在系统的动静盘之间形成剪切力,从而产生阻碍动盘旋转的力矩     

电磁抛光装置的结构设计及特性研究

介绍了五轴联动磁流变抛光系统中的关键部件———公自转电磁抛光轮的结构设计进行了详细阐述,创造性的将电刷供电方式应用于该新型抛光轮的结构中。设计并开发了直流供电及交流供电两种驱动电源,并开展了抛光去除特性试验研究,对磁流变抛光过程中的主要控制参量直流线圈电压大小对被抛光工件表面材料去除特性的影响进行了研究。     

基于磁流变阻尼器的转子系统振动随动控制

针对大型旋转机械通过临界转速时振动过大的问题,搭建了转子系统实验台,实验台保持原本的支撑形式,并安装磁流变阻尼器,实验研究不同工况下磁流变阻尼器对转子系统振动的影响规律.结果表明:磁流变阻尼器可以有效抑制转子系统临界转速附近的振动,降幅可达90%.根据实验结果提出一种以振幅为反馈控制参数的随动控制方法,对转子系统的振幅变化进行追踪,根据振幅实时调节磁流变阻尼器电流,在线抑制振动.结果表明随动控制可以随着转子系统振动变化而在线改变控制电流,使转子系统振动稳定在目标值附近,实现了转子振动的自动调控.      

蓝宝石晶片飞秒激光辅助集群磁流变抛光试验研究

为了实现蓝宝石衬底材料高效高品质超光滑平坦化加工的目的,提出一种先利用飞秒激光对蓝宝石晶片表面材料进行预处理改性后再集群磁流变抛光新工艺,并且研究了飞秒激光扫描速度和集群磁流变抛光时间对激光预处理蓝宝石晶片表面抛光材料去除率和表面粗糙度的影响规律,同时借助X射线光电子能谱(XPS)和X射线衍射(XRD)分析了蓝宝石表面...     

新型磁流变减摆器节流孔流场分析

节流孔是磁流变减摆器产生阻尼的主要方式,在磁流变减摆器实际工作环境下,磁流变液经过磁场时会随磁场分布强度不同而产生变黏度等应激变化。建立某新型磁流变减摆器计算模型,通过改变节流孔孔径大小,使用商业软件 Fluent 对其所产生的流场进行分析,将模拟结果与实验结果进行对比。结果表明:磁流变液流通量及淤积效应是决定磁流变减摆器初始阻尼及时滞效应的主要原因;在 0.2mm 孔径时时滞效应最明显,且随频率增高磁流变减摆器对于外界激励反应速度明显下降。     

月球着陆器软着陆状态跳跃半主动控制

 将磁流变阻尼器应用到月球着陆器着陆机构中,进行减震与缓冲。考虑到着陆初始姿态角的不定和月面斜角的未知,建立起着陆器软着陆动力学模型。基于磁流变液在高速流与长冲程时的阻尼特性,分析了磁流变阻尼器的力学特性。应用安全角面的概念定义安全着陆所要求的着陆初始姿态角与月面斜角之间的关系,建立状态跳跃控制策略,实现软着陆半主动控制。通过与某型被动控制的着陆器进行对比分析,研究了半主动控制。研究结果表明：当允许的最大加速度响应不超过8g时,磁流变半主动状态跳跃控制的安全角面为理想安全角面的0.977 4,是被动控制安全角面的4.2倍,最大加速度变化的相对标准差为被动控制的0.59;而且当着陆初始姿态角以及月面斜角很大时,月球着陆器姿态角变化少,保证月球着陆器平稳着陆。     

倒置式磁流变抛光装置的设计与研究

针对大尺寸工件的抛光加工特点,设计了倒置式的磁流变抛光装置。详细阐述了符合磁流变抛光要求的磁场发生装置的设计原理,并对抛光区域磁场进行了理论分析、软件仿真和优化。