|
|||||
|
|
| 气压法烧结氮化硅陶瓷的研究 | |
| 引用本文： | 熊向东,李熙章.气压法烧结氮化硅陶瓷的研究[J].宇航材料工艺,1996(5):35-37. |
| 作者姓名： | 熊向东 李熙章 |
| 作者单位： | 华中理工大学材料系 |
| 摘 要： | 介绍了气压法烧结氯化硅陶瓷的工艺，并对所得陶瓷的常规性能作了评价。 |
| 关 键 词： | 氮化硅，气压烧结法 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
|
||||||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||||||
|
|
|
|
| 设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏 |
|
Copyright©北京勤云科技发展有限公司 京ICP备09084417号 |