| 化学气相沉积法制备吸波型SiCN陶瓷的研究进展 |
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| 引用本文： | 穆阳阳,涂建勇,薛继梅,叶昉,成来飞.化学气相沉积法制备吸波型SiCN陶瓷的研究进展[J].航空材料学报,2019,39(3):1-9. |
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| 作者姓名： | 穆阳阳 涂建勇 薛继梅 叶昉 成来飞 |
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| 作者单位： | 西北工业大学 超高温结构复合材料国防科技重点实验室,西安,710072;西北工业大学 超高温结构复合材料国防科技重点实验室,西安,710072;西北工业大学 超高温结构复合材料国防科技重点实验室,西安,710072;西北工业大学 超高温结构复合材料国防科技重点实验室,西安,710072;西北工业大学 超高温结构复合材料国防科技重点实验室,西安,710072 |
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| 摘 要： | 化学气相沉积法(chemical vapor deposition,CVD)是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术,具有制备温度低、所得材料均匀致密、可实现近尺寸成型等优点,是制备功能材料的常用方法之一。本文综述了几种常见的CVD 方法,如常压化学气相沉积(atmospheric pressure chemical vapor deposition,APCVD)、低压化学气相沉积(lowpressure chemical vapor deposition, LPCVD)、等离子体增强化学气相沉积( plasma enhanced chemical vapordeposition,PECVD)以及激光辅助化学气相沉积(laser assisted chemical vapor deposition,LACVD);重点阐述了采用LPCVD 在较低温度下制备SiCN 陶瓷吸波剂的工艺参数,提出了LPCVD 是制备新型吸波陶瓷的主要方法。
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| 关 键 词： | CVD法 SiCN陶瓷 吸波剂 吸波性能 |
Research progress on SiCN ceramic prepared at low temperature by chemical vapor deposition |
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| MU Yangyang,TU Jianyong,XUE Jimei,YE Fang,CHENG Laifei.Research progress on SiCN ceramic prepared at low temperature by chemical vapor deposition[J].Journal of Aeronautical Materials,2019,39(3):1-9. |
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| Authors: | MU Yangyang TU Jianyong XUE Jimei YE Fang CHENG Laifei |
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| Institution: | (Science and Technology on Thermostructural Composite Materials Laboratory,Northwestern Polytechnical University,Xi’an710072,China) |
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| Abstract: | MU Yangyang;TU Jianyong;XUE Jimei;YE Fang;CHENG Laifei(Science and Technology on Thermostructural Composite Materials Laboratory,Northwestern Polytechnical University,Xi’an710072,China) |
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| Keywords: | CVD method SiCN ceramics microwave absorber absorbing properties |
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