| H2对SrBi2Ta2O9薄膜表面形貌和铁电性能的影响 |
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| 引用本文： | 王东生,于涛,吴迪,胡安.H2对SrBi2Ta2O9薄膜表面形貌和铁电性能的影响[J].南京航空航天大学学报,2004,36(6):774-777. |
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| 作者姓名： | 王东生 于涛 吴迪 胡安 |
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| 作者单位： | 1. 南京航空航天大学理学院,南京,210016
2. 南京大学固体微结构物理国家重点实验室,南京,210093 |
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| 摘 要： | 在Pt／TiO2／SiO2／Si衬底上，用金属有机物分解(MOD)法制备了SrBi2Ta2O9(SBT)铁电薄膜。通过对SBT薄膜表面形貌变化的结果表明，SBT薄膜经过氮氢混合气氛(forming gas，95％N2 5％H2)退火后，由于氢的还原作用造成了Bi的缺失，从而导致了薄膜铁电性能的退化，SEM结果表明还原出来的Bi在薄膜表面形成柱状结构。而SBT薄膜经过1h 750℃的氧气氛退火处理后．由于Bi被重新氧化，SBT薄膜的铁电性能可以得到恢复。
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| 关 键 词： | SBT薄膜 混合气氛 铁电性能 |
| 文章编号： | 1005-2615(2004)06-0774-04 |
| 修稿时间： | 2004年6月29日 |
Effects of Annealing in H2-Containing Ambient on Surface Morphologies and Ferroelectricities of SrBi2Ta2O9 Ferroelectric Thin Films |
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| WANG Dong-sheng ,YU Tao ,WU Di ,HU An.Effects of Annealing in H2-Containing Ambient on Surface Morphologies and Ferroelectricities of SrBi2Ta2O9 Ferroelectric Thin Films[J].Journal of Nanjing University of Aeronautics & Astronautics,2004,36(6):774-777. |
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| Authors: | WANG Dong-sheng YU Tao WU Di HU An |
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| Institution: | WANG Dong-sheng 1,YU Tao 2,WU Di 2,HU An 2 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | SBT thin films forming gas ferroelectric properties |
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