| 石墨基体电泳沉积法制备SiC涂层 |
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| 引用本文： | Zhao Wentao%史景利%Guo Quangui%宋进仁%Liu Lang. 石墨基体电泳沉积法制备SiC涂层[J]. 宇航材料工艺, 2008, 38(4) |
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| 作者姓名： | Zhao Wentao%史景利%Guo Quangui%宋进仁%Liu Lang |
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| 作者单位： | 中国科学院山西煤炭化学研究所炭材料重点实验室,太原,030001 |
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| 摘 要： | 采用电泳沉积法在石墨基体上涂敷SiC.通过对SiC悬浮液外部参数的控制,得到沉积时间、电压、添加剂量、固含量对沉积状况的影响.通过正交试验得到优化条件并在优化条件下制备样品,经烧结处理即得石墨的SiC涂层.用SEM观察涂层的微观结构,XRD用于烧结前后的相鉴定.结果表明,石墨基体上电泳沉积法制备均匀的SiC涂层简便可行.涂层为颗粒的物理堆积且存在孔隙,在实验烧结条件下SiC没有发生相变.
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| 关 键 词： | 电泳沉积 SiC 石墨 |
SiC Coating by Electrophoretic Deposition on Graphite Substrate |
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| Zhao Wentao,Shi Jingli,Guo Quangui,Song Jinren,Liu Lang. SiC Coating by Electrophoretic Deposition on Graphite Substrate[J]. Aerospace Materials & Technology, 2008, 38(4) |
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| Authors: | Zhao Wentao Shi Jingli Guo Quangui Song Jinren Liu Lang |
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