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| 软X射线投影光刻的关键技术 | |
| 摘 要： | 1．多层膜反射镜是投影光刻得以实现的前提．必须解决多层膜的高反射率、带宽匹配、应力，曲面基板上膜厚随入射角变化而变化等关键问题．目前，Mo／Be和Mo／Si多层膜在11～14mm波段得到了接近70％的反射率。2．光学元件超精密加工与检测是投影光刻得以实现的另一大基础。软X射线投影光刻所用的光学元件不仅要有较高的面形精度，而且要有较低的表面粗糙度。美国Tinsley公司现在能加工面形误差精度达0．6nm的元件，这是目前世界上最高的光学加工水平。为检测所加工元件的面形误差，该公司采用了精密干涉测量法、STM和AFM技术等当今最先… |
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