| 半闭环磁场中磁控溅射镀膜工艺对TiN硬度的影响 |
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| 引用本文： | 金杰,李刘合,舒祥东.半闭环磁场中磁控溅射镀膜工艺对TiN硬度的影响[J].航天制造技术,2006(3):12-13. |
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| 作者姓名： | 金杰 李刘合 舒祥东 |
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| 作者单位： | 北京机械工业自动化研究所，北京航空航天大学，北京旭硝电子玻璃有限公司 |
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| 摘 要： | 在不同的工艺条件下,利用复合磁控溅射镀膜机双直流溅射靶,镀制了大量的试验样品,通过XP测定不同工艺参数条件下三个试样膜层的硬度。经过仔细分析发现,磁场的分布、靶基距和温度对薄膜的硬度影响很大。
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| 关 键 词： | 磁控溅射 纳米硬度 脉冲偏压 TiN薄膜 |
| 修稿时间： | 2006年1月11日 |
Influence on hardness of TiN of magnetic controlled spatter coating technology in semi-closed loop magnet field |
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| Jin Jie.Influence on hardness of TiN of magnetic controlled spatter coating technology in semi-closed loop magnet field[J].Aerospace Manufacturing Technology,2006(3):12-13. |
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| Authors: | Jin Jie |
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