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定偏心锡磨盘超精密抛光均匀去除模拟计算
引用本文:张红霞,殷伯华,吴明根,高宏刚.定偏心锡磨盘超精密抛光均匀去除模拟计算[J].航空精密制造技术,1998(5).
作者姓名:张红霞  殷伯华  吴明根  高宏刚
作者单位:Zhang Hongxia,Yin Bohua,GaoHonggang et al
摘    要:通过对被研磨工件与锡磨盘相对运动轨迹方程的建立、模拟和计算,从理论上分析了影响获得超光滑金属表面(Ra05nm)的重要因素,以及如何选择运动参数。

关 键 词:超精密加工    轨迹  平面  研磨
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