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会议消息
摘 要:
第四届国际材料热处理年会于1985年6月3日至7日在西柏林举行。会址设在现国际会议中心(ICC)。参加会议的有来自26个国家的260多位代表,其中,中国代表20多人。我部派出哈尔滨工业大学热处理教研室刘志如副教授等4人出席了会议。
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