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| 用于薄膜技术的多功能高频溅射仪 | |
| 引用本文： | 陆海鑫,高炳良,施恩光.用于薄膜技术的多功能高频溅射仪[J].上海航天,1987(4). |
| 作者姓名： | 陆海鑫 高炳良 施恩光 |
| 作者单位： | 上海航天局第八○四研究所 (陆海鑫，高炳良)，上海航天局第八○四研究所(施恩光) |
| 摘 要： | 介绍多功能高频溅射仪,这是一台具有自动气体流量控制和自动基片加热控制装置的三靶式磁控仪.它能进行基片加偏压溅射、反应溅射以及底溅射等,是目前国内较完善的薄膜制备设备.着重介绍他激振荡电源、磁控靶、传输线等设计特点;对影响溅射速率的因素以及两种特殊作用的溅射即衬底偏压溅射和衬底加热溅射作了讨论;最后介绍溅射的最新应用. |
| 关 键 词： | 1.薄膜工艺——研究 2.溅射台——应用 |
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