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TC4和GH4169合金X射线散射比的测定及分析
引用本文:于漫漫,高鸿波,李泽,邹斌,王欢.TC4和GH4169合金X射线散射比的测定及分析[J].南昌航空工业学院学报,2013(3):93-97.
作者姓名:于漫漫  高鸿波  李泽  邹斌  王欢
作者单位:南昌航空大学;西安航空动力股份有限公司
基金项目:国家自然科学基金(61261031);江西省测试技术与控制工程研究中心基金(ZX201028002)
摘    要:控制散射线是提高射线检测成像质量的主要手段之一,本研究通过缪勒法对激光快速成型TC4钛合金和GH4169高温镍基合金经X射线透照时的散射比进行了测量,结果表明:在本研究测量的所用的射线能量范围内,厚度一定的条件下,对于激光快速成型TC4钛合金和GH4169高温镍基合金,当管电压分别在80~180 kV和85~170 kV范围内增加时X射线散射比均减小;当管电压分别超过180 kV和170 kV后,散射比基本保持不变。对于TC4钛合金,在7~40 mm厚度范围内,对于GH4169高温镍基合金,在1~14 mm厚度范围内,随着材料厚度的增加,散射比均具有增加的趋势;因此,在条件允许的情况下,适当提高管电压有利于减少散射线对成像质量的影响。

关 键 词:X射线  散射比
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