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纳米台阶高度标准样块的研制与评价CSCD
引用本文:冯亚南李锁印韩志国赵琳许晓青.纳米台阶高度标准样块的研制与评价CSCD[J].宇航计测技术,2016(5):63-66.
作者姓名:冯亚南李锁印韩志国赵琳许晓青
作者单位:1.中国电子科技集团公司第十三研究所050051;
摘    要:介绍了纳米台阶高度标准样块的用途及国内研制样块的情况,设计了纳米台阶高度样块的结构和制作工艺流程,制作了高度20nm^100nm的样块。以20nm、50nm、100nm为例对样块的台阶高度、台阶上下表面平行度、台阶测量区域的粗糙度、均匀性、稳定性进行了考核。结果表明,研制的样块台阶高度与设计值基本一致,稳定性好,与美国VLSI公司的相同高度的台阶高度标准样块相比,本文制作样块的平行度、粗糙度、均匀性与VLSI样块评价测量结果一致。

关 键 词:台阶高度标准样块  平行度  粗糙度  均匀性  稳定性  Step  height  standard  specimens  Parallel  Roughness  Uniformity  Stability
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