摘 要: | 利用磁控溅射技术在C103型Nb基高温合金上制备了含和不含CrON扩散阻挡层的NbCrAl涂层,对比研究了2种涂层分别经900℃和1 000℃真空热处理后的元素扩散行为。结果表明:NbCrAl涂层以Cr2Nb和AlNb2相为主,含非晶态组织;真空热处理后生成了NbAl3和(Nb,Cr)沉淀相。热处理温度由900℃升至1 000℃时,NbCrAl涂层中元素扩散速度加快。不含扩散阻挡层样品中Cr和Al元素扩散至基体的含量分别为2.76wt%和1.21wt%,而含扩散阻挡层样品中Cr和Al元素扩散到基体的含量分别仅为2.52wt%和0.84wt%。扩散阻挡层保持连续,且与涂层及基体的界面结合良好,经高温处理后主要以密排六方结构的Cr2O3和Al2O3相为主,有效地抑制了元素互扩散。
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