|
|||||
|
|
| 电源波形对铬镀层质量的影响——可控硅电源镀铬试验 | |
| 引用本文： | 苏宇春.电源波形对铬镀层质量的影响——可控硅电源镀铬试验[J].航空制造技术,1980(2). |
| 作者姓名： | 苏宇春 |
| 作者单位： | 可控硅电源镀铬试验小组 |
| 摘 要： | 可控硅电源,由于它体积小、无噪音、效率高、安装维护方便等优点,作为电镀电源目前正在国内外推广使用。但在实际应用中,可控硅电源镀铬尚存在一些问题:如铬镀层质量不稳定、外观发灰甚至发暗,而且可控硅管过载能力小,不能承受短时间的大电流冲击,给实际生产应用带来许多不便,影响了可控硅电 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |