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用离子束辅助沉积(IBAD)工艺制备TiC
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膜的研究
引用本文:
宇航材料工艺.用离子束辅助沉积(IBAD)工艺制备TiC
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N
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膜的研究[J].宇航材料工艺,1999,29(5):17.
作者姓名:
宇航材料工艺
作者单位:
:(四川大学原子核科学技术研究所,教育部辐射物理及技术开放研究实验室 成都 610064)
摘 要:
修稿时间:
:1998-07-2
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