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| 现代表面分析——俄歇电子谱(AES)和X射线光电子谱(XPS)在冶金学中的应用——第二讲 内界面 | |
| 引用本文： | 杨敬时.现代表面分析——俄歇电子谱(AES)和X射线光电子谱(XPS)在冶金学中的应用——第二讲 内界面[J].宇航材料工艺,1982(5). |
| 作者姓名： | 杨敬时 |
| 作者单位： | Perkin-Elmer公司物理电子学分部 |
| 摘 要： | Ⅰ导论 近年来,俄歇电子谱学和X射线光电子谱学已作为能够确定表面化学成分的、实际可行的分析技术出现。其中,俄歇电子谱学在研究内界面偏聚方面倍受重视。电子束聚焦的先进技术已导致发展成为扫描俄歇电子微探针(SAM),这就使研究非均质表面所必需的成分分布图象及空间分辨技术可能实现。而ESCA听具有的能够确定化学状态的本领又使这种技术在某些 |
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