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最新离子镀技术—磁控电弧蒸发器
引用本文:田大准.最新离子镀技术—磁控电弧蒸发器[J].航天制造技术,1989(3):44-47.
作者姓名:田大准
作者单位:北京机械工业自动化研究所
摘    要:物理气相沉积工艺,在工业应用中产生等离子体有三种重要方法。它们是真空溅射、坩埚蒸发和由电弧形成的蒸发。三种方法比较见附表一。 电弧放电产生物理气相沉积薄膜是在真空中进行的一个过程,也是八十年代生产应用最为广泛的方法。据苏刊报道,目前苏联航空修理厂正在广泛采用磁场内的焊接新技术。这种新技术可以避免一般氩弧焊的某些缺点。

关 键 词:离子镀  磁控电弧  蒸发器
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