| 微光学元件光刻对焦方法 |
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| 引用本文： | 刘智怀,龚勇清,李平贵.微光学元件光刻对焦方法[J].南昌航空工业学院学报,2009,23(1):84-86. |
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| 作者姓名： | 刘智怀 龚勇清 李平贵 |
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| 作者单位： | 南昌航空大学自动化学院,江西,南昌,330063
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| 摘 要： | 文章提出了三种微光学元件光刻对焦方法,并用它们对北京化学试剂研究所生产的BP-218紫外正型光刻胶的分辨率进行了测试,得到了满意的结果.
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| 关 键 词： | 微光学 光刻 焦平面 光刻胶 |
Research on the Method of Focusing of Lithography Technology for Micro-optical Elements |
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| LIU Zhi-huai,GONG Yong-qing,LI Ping-gui.Research on the Method of Focusing of Lithography Technology for Micro-optical Elements[J].Journal of Nanchang Institute of Aeronautical Technology(Natural Science Edition),2009,23(1):84-86. |
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| Authors: | LIU Zhi-huai GONG Yong-qing LI Ping-gui |
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