| 退火对CoFe薄膜结构特性的影响 |
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| 引用本文： | 白翠琴,吴平,李正强,谭红革.退火对CoFe薄膜结构特性的影响[J].中国民航学院学报,2006,24(3):52-54. |
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| 作者姓名： | 白翠琴 吴平 李正强 谭红革 |
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| 作者单位： | 中国民用航空学院理学院 天津300300(白翠琴，谭红革)，北京科技大学应用科学学院 北京100083(吴平)，宝钢股份有限公司能源部 上海201900(李正强) |
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| 基金项目： | 中国民用航空学院校科研和教改项目;中国民用航空学院校科研和教改项目 |
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| 摘 要： | 利用粉末冶金方法置备了Co90Fe10靶材,用X射线能量损失谱(EDX)分析靶材成分,并利用X射线衍射分析靶材的结构。CoFe薄膜在优于5.5×10-4Pa的本底真空度下室温沉积在热氧化Si基片上,样品在3×10-5Pa真空度下分别进行了450℃和500℃的60min退火处理。用EDX和俄歇电子能谱分别分析了靶材和薄膜的成分中Co,Fe的比例。X射线衍射发现沉积在热氧化Si基片上的CoFe膜(111)晶面面间距明显小于靶材相应晶面面间距,退火处理使膜(111)晶面面间距明显增大,趋向靶材面间距。磁阻特性测量表明室温沉积的薄膜磁电阻经450℃和500℃退火后得到非常明显改善。
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| 关 键 词： | CoFe薄膜 电子束蒸发 退火膜结构 各向异性磁电阻率 |
| 文章编号： | 1001-5000(2006)03-0052-03 |
| 收稿时间： | 2006-01-06 |
| 修稿时间： | 2006-02-28 |
Annealing Effect on Structure of CoFe Film |
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| BAI Cui-qin,WU Ping,LI Zheng-qiang,TAN Hong-ge.Annealing Effect on Structure of CoFe Film[J].Journal of Civil Aviation University of China,2006,24(3):52-54. |
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| Authors: | BAI Cui-qin WU Ping LI Zheng-qiang TAN Hong-ge |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | CoFe film e-beam evaporation annealing film structure AMR |
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