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| 适于ArF准分子激光蚀刻用的紫外光学材料 | |
| 作者单位： | |
| 摘 要： | 日本东北大学金属材料研究所的福田承生教授及分子科学研究所的猿仓信彦副教授等研究小组经研究发现，LiCaAlF6这种晶体是适于用ArF（氯化氩）准分子激光刻蚀的透镜、光阑用材料．目前半导体制作用多选择波长248nm的KrF（氟化氪）准分子激光器，未来波长193nm的ArF激光器将有希望成为下一代光源．而对以往的镜头材料和光圈材料的刻蚀，不能使用此波段的激光作光源．能用紫外光刻蚀的光学材料，目前仅限于氟化钙和石英．最短透过波长分别为140nm、180nm，无论哪一种都能透过ArF激光。但由于透过波长范围的余地非常小，故接收紫外光时，… |
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