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| 复合靶磁控溅射离子镀膜技术 | |
| 引用本文： | 毛德才,张秀娥.复合靶磁控溅射离子镀膜技术[J].航天制造技术,2000(1):5-8. |
| 作者姓名： | 毛德才 张秀娥 |
| 作者单位： | 北京无线电测量研究所 |
| 摘 要： | 从理论上、实践上比较了多种镀膜技术 ,确认了在铁氧体移相器单元表面镀膜最好且实用的技术是复合靶、磁控溅射离子镀技术 ,并进一步阐述、分析了优质镀层获得的基本规律 |
| 关 键 词： | 表面镀膜 磁控溅射 离子镀 工艺参数 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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